1.本技术涉及显示领域，具体涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术：2.现有显示面板在制作过程中，通常采用在阵列基板上制作平坦化层以对阵列基板表面进行平坦化处理，然后在平坦化层上形成阳极层和发光层。由于现有平坦化层自身表面的粗糙度较大，导致在其表面沉积而成的阳极层的平整度较差，从而影响发光层的厚度均匀性，最终导致显示面板整体显示不均。
技术实现要素：3.本技术实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，可以解决现有显示面板因阳极层平整度较差导致显示不均的问题。
4.本技术实施例提供一种显示面板，包括：
5.衬底基板；
6.无机层，设置在所述衬底基板上；
7.薄膜晶体管层，设置在所述无机层上；所述薄膜晶体管层上开设有第一开口，所述第一开口部分露出所述无机层；所述薄膜晶体管层包括源漏极层；
8.阳极层，部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接。
9.可选的，在本技术的一些实施例中，所述阳极层包括阳极，所述阳极包括依次连接的第一本体、连接部和第二本体，所述第一本体位于所述第一开口露出的无机层上，所述连接部位于所述第一开口的侧壁上，所述第二本体与所述源漏极层电连接。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示面板包括遮光层，所述遮光层位于所述衬底基板和所述薄膜晶体管层之间；所述薄膜晶体管层包括沿远离所述遮光层的方向依次设置的缓冲层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层和所述源漏极层，所述源漏极层包括源极，所述源极与所述遮光层电连接；
11.所述遮光层位于所述无机层上；或，
12.所述遮光层与所述无机层同层设置。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示面板包括钝化层，所述钝化层设置在所述薄膜晶体管层上，所述钝化层上对应所述第一开口的位置开设有第二开口，所述钝化层上对应所述源极的位置开设有第三开口；
14.所述阳极的第二本体位于所述钝化层上，所述第二本体通过所述第三开口与所述源极电连接，所述阳极的连接部位于所述第一开口和所述第二开口的侧壁上。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示面板还包括像素定义层和发光层，所述像素定义层位于所述钝化层上，所述像素定义层上开设有第四开口，所述第四开口露出所述第一本体，所述发光层位于所述第一本体上。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述缓冲层上开设有第一子开口，所述第一子开口露出所述无机层，所述第二绝缘层上对应所述第一子开口的位置开设有第二子开口，所述第一子开口与所述第二子开口形成所述第一开口；
17.所述缓冲层上开设有第五开口，所述第五开口露出所述遮光层，所述阳极层的第二本体位于所述缓冲层上，所述第二本体通过所述第五开口与所述遮光层电连接，所述连接部位于所述第一子开口的侧壁上。
18.可选的，在本技术的一些实施例中，所述缓冲层上开设有第一子开口，所述第一子开口露出所述无机层，所述第二绝缘层上对应所述第一子开口的位置开设有第二子开口，所述第一子开口与所述第二子开口形成所述第一开口；
19.所述第二绝缘层上开设有第六开口，所述第六开口露出所述遮光层，所述阳极的第二本体位于所述第二绝缘层上，所述第二本体通过所述第六开口与所述遮光层电连接，所述连接部位于所述第一子开口和所述第二子开口的侧壁上。
20.可选的，在本技术的一些实施例中，所述无机层的材质包括无定形硅、氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。
21.可选的，在本技术的一些实施例中，所述无机层的厚度大于或等于50nm且小于或等于1000nm。
22.相应的，本技术实施例还提供一种显示装置，包括上述任一项所述的显示面板。
23.相应的，本技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
24.提供一衬底基板；
25.在所述衬底基板上沉积一层无机层；
26.在所述无机层上形成薄膜晶体管层，并在所述薄膜晶体管层上形成第一开口，使所述第一开口部分露出所述无机层，所述薄膜晶体管层包括源漏极层；
27.沉积一层阳极层，使所述阳极层部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接。
28.可选的，在本技术的一些实施例中，所述源漏极层包括源极，所述阳极层包括阳极，所述阳极包括依次连接的第一本体、连接部和第二本体；所述沉积一层阳极层，使所述阳极层部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接，包括：
29.在所述薄膜晶体管层上形成一层钝化层，并在所述钝化层上对应所述第一开口的位置形成第二开口，在所述钝化层上对应所述源极的位置形成第三开口；
30.在所述钝化层上沉积一层阳极层，使所述第一本体位于所述第一开口露出的无机层上，使所述连接部位于所述第一开口和所述第二开口的侧壁上，使所述第二本体位于所述钝化层上，所述第二本体通过所述第三开口与所述源极电连接。
31.可选的，在本技术的一些实施例中，所述方法还包括：
32.在所述钝化层上形成像素定义层，并在所述像素定义层上形成第四开口，使所述第四开口露出所述第一本体；
33.在所述第一本体上形成发光层。
34.本技术实施例中显示面板包括衬底基板、无机层、薄膜晶体管层和阳极层，无机层设置在衬底基板上，薄膜晶体管层设置在无机层上，薄膜晶体管层上开设有第一开口，第一开口部分露出无机层，薄膜晶体管层包括源漏极层，阳极层部分位于第一开口露出的无机
层上，阳极层与源漏极层电连接。本技术通过在衬底基板上设置无机层，使无机层与衬底基板整体形成平坦化层，并通过在薄膜晶体管层上开设第一开口，使阳极层部分位于第一开口露出的无机层上，从而保证位于无机层上的阳极层的平整性，以改善显示面板显示不均的问题。
附图说明
35.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
36.图1是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
37.图2是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
38.图3是本技术实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
39.图4是本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
40.图5是本技术实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；
41.图6是本技术实施例提供的图5中步骤s300的结构示意图；
42.图7是本技术实施例提供的图5中步骤s400的结构示意图；
43.图8是本技术实施例提供的图5中步骤s400的流程图。
44.附图标记说明：
45.46.具体实施方式
47.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
48.本技术实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。以下分别进行详细说明。需要说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
49.首先，本技术实施例提供一种显示面板，如图1至图3所示，显示面板100包括衬底基板110，衬底基板110作为显示面板100的支撑结构，用于支撑设置在衬底基板110上的其他功能结构层，以保证显示面板100整体的结构稳定性。其中，衬底基板110可以为玻璃基板或其他材质类型的基板，此处不做限制。
50.显示面板100包括无机层120，无机层120设置在衬底基板110上，由于无机层120自身表面的粗糙度小且平整性好，在衬底基板110上设置无机层120能够对衬底基板110表面进行平坦化处理，其中，无机层120和衬底基板110整体则可以看做为一个平坦化层，有助于后续膜层的制作。
51.显示面板100包括薄膜晶体管层140，薄膜晶体管层140设置在无机层120上，如图6所示，薄膜晶体管层140上开设有第一开口147，第一开口147部分露出无机层120，以便于后续膜层在无机层120上的制作。其中，薄膜晶体管层140包括源漏极层146，源漏极层146则用于与其他膜层进行连接，以实现薄膜晶体管层140对其他膜层的控制。
52.显示面板100包括阳极层160，如图7所示，阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，由于无机层120自身粗糙度小且平整性好，从而使得位于无机层120上的阳极层160的平整度也较好，有助于提高后续膜层的均匀性，从而改善显示面板100显示不均的问题。
53.此外，由于衬底基板110中含有多种杂质离子，通过在衬底基板110上设置无机层120，还能够将衬底基板110与对应的阳极层160隔开，避免衬底基板110中的杂质离子进入阳极层160内，从而影响显示面板100的显示效果。
54.其中，阳极层160与薄膜晶体管层140中的源漏极层146电连接，以使阳极层160与对应的薄膜晶体管层140中的薄膜晶体管电连接，以实现对阳极层160上信号导通与断开的控制，从而实现对显示面板100显示方式的调控。
55.需要说明的是，阳极层160与源漏极层146电连接可以是阳极层160与源漏极层146直接连接，或者阳极层160通过其他结构与源漏极层146间接连接，其连接方式与阳极层160的具体结构设计方式相关，此处不做特殊限制。
56.本技术实施例中显示面板100包括衬底基板110、无机层120、薄膜晶体管层140和阳极层160，无机层120设置在衬底基板110上，薄膜晶体管层140设置在无机层120上，薄膜晶体管层140上开设有第一开口147，第一开口147部分露出无机层120，薄膜晶体管层140包括源漏极层146，阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，阳极层160与源漏极层146电连接。本技术通过在衬底基板110上设置无机层120，使无机层120与衬底基板110整体形成平坦化层，并通过在薄膜晶体管层140上开设第一开口147，使阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，从而保证位于无机层120上的阳极层160的平整性，以改善显示面板100显示不均的问题。
57.可选的，阳极层160包括阳极161，阳极161包括依次连接的第一本体1611、连接部1612和第二本体1613。第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，用于后续膜层在阳极层160上的制作；连接部1612位于第一开口147的侧壁上，以便于第一本体1611与其他结构的连接设计；第二本体1613则与源漏极层146电连接，以实现阳极161与源漏极层146的电连接。
58.其中，第二本体1613的设置位置能够根据阳极161和源漏极层146的连接方式进行调整，当第二本体1613的设置位置发生变化时，连接部1612在第一开口147的侧壁上的形成区域也会随之发生变化，以确保阳极161整体与源漏极层146的电连接。
59.可选的，显示面板100包括遮光层130，遮光层130位于衬底基板110与薄膜晶体管层140之间，薄膜晶体管层140包括沿远离遮光层130的方向依次设置的缓冲层141、有源层142、第一绝缘层143、栅极层144、第二绝缘层145和源漏极层146。通过在衬底基板110与薄膜晶体管层140之间设置遮光层130，能够利用遮光层130对外界环境光进行遮挡，避免外界环境光照射在有源层142上对有源层142结构造成影响，从而影响薄膜晶体管层140的正常使用。
60.其中，源漏极层146包括源极，且源极与遮光层130电连接，即在显示面板100制作过程中，在第二绝缘层145上开设通孔，以使源极通过该通孔与遮光层130电连接。通过将源极与遮光层130电连接有助于对源极与其他结构的连接方式进行优化设计，同时还能够通过遮光层130上的走线设计实现对源极上信号输入的调控。
61.在一些实施例中，遮光层130位于无机层120上，即无机层120在衬底基板110上为整面设置，使得在衬底基板110上沉积一层无机层120后，无需对无机层120进行图案化处理，以减少制程中的光罩次数。此时，遮光层130与阳极161中位于无机层120上的第一本体1611同层设置，且遮光层130与第一本体1611之间通过缓冲层141进行绝缘隔开，以便于阳极161与源漏极层146之间的电连接设计。
62.在另一些实施例中，遮光层130与无机层120同层设置，即无机层120的设置位置与阳极161中第一本体1611的设置位置相对应，以实现对第一本体1611制作表面的平坦化，并将衬底基板110与第一本体1611隔离，避免衬底基板110中的杂质离子进入第一本体1611内，从而保证显示面板100的正常显示。此过程中在衬底基板110上形成无机层120之后，需要对无机层120进行图案化处理，仅保留与第一本体1611相对应的部分，此种结构设计方式
有助于减小显示面板100的整体厚度。
63.需要说明的是，本技术实施例中的阳极层160可以为双层结构，其靠近衬底基板110的一侧为银等具有反射作用的反射层，其远离衬底基板110的一侧则为氧化铟锡等透明电极，反射层和透明电极共同组成阳极层160。其中，反射层能够将外部环境照射进的光进行反射，从而起到遮光的作用，避免外部环境光对显示面板100的显示效果产生影响。
64.因此，阳极层160自身具有遮光的作用，在对遮光层130进行图案化处理时，能够将图案化的遮光层130设置在阳极161所在区域的周围，阳极161面向衬底基板110的一侧则无需单独设置遮光层130。
65.可选的，如图7所示，显示面板100包括钝化层150，钝化层150设置在薄膜晶体管层140上，以将薄膜晶体管层140与后续膜层隔开。钝化层150上对应第一开口147的位置开设有第二开口151，且第二开口151与第一开口147连通，以使对应的无机层120露出。
66.其中，钝化层150上对应源极的位置开设有第三开口152，阳极161的第二本体1613位于钝化层150上，且第二本体1613通过第三开口152与源极电连接，阳极161的连接部1612则位于第一开口147与第二开口151的侧壁上，以实现阳极161与源极的电连接。即在薄膜晶体管层140上形成钝化层150后，再沉积一层阳极层160，使阳极层160中阳极161的第一本体1611位于露出的无机层120上，第二本体1613位于钝化层150上，连接部1612则位于第一开口147和第二开口151的侧壁上并连接第一本体1611和第二本体1613。
67.需要说明的是，由于阳极161的连接部1612同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上，使得连接部1612在第一本体1611与第二本体1613之间的爬坡高度较大。在钝化层150上形成第二开口151的过程中，能够在第一开口147与第二开口151的侧壁之间形成一个台阶，使得在沉积阳极161的过程中能够在台阶上形成缓冲，降低阳极161的连接部1612在第一开口147和第二开口151的侧壁上发生断裂的风险。
68.可选的，如图1至图3所示，显示面板100还包括像素定义层170和发光层180，像素定义层170位于钝化层150上，像素定义层170上开设有第四开口171，第四开口171露出阳极161的第一本体1611，以限定发光像素所在的区域。发光层180则位于第一本体1611上，通过在阳极161的第一本体1611上输入控制信号，能够实现对发光层180发光方式的调控。
69.其中，当在像素定义层170上形成第四开口171时，第四开口171仅露出第一本体1611，即像素定义层170覆盖阳极161的第二本体1613和连接部1612，使得发光层180仅与阳极161的第一本体1611接触。由于第一本体1611位于无机层120上，使得第一本体1611表面平整度较好，有利于保证发光层180的厚度均匀性，从而有助于改善显示面板100显示不均的问题。
70.在一些实施例中，像素定义层170上开设的第四开口171的侧壁呈阶梯状，且第四开口171沿远离衬底基板110的方向逐渐扩张；此外，像素定义层170所用的材质呈疏水性，使得在采用喷墨打印的方式在第一本体1611上形成发光层180时，即使打印喷嘴的位置存在一定偏差，打印墨水也能够沿着第四开口171的侧壁流入第四开口171内，从而保证发光层180整体的厚度均匀性，改善显示面板100的显示效果。
71.可选的，如图6所示，薄膜晶体管层140中的缓冲层141上开设有第一子开口1471，第一子开口1471露出无机层120，第二绝缘层145上对应第一子开口1471的位置开设有第二子开口1472，第一子开口1471和第二子开口1472共同形成薄膜晶体管层140中的第一开口
147。
72.也就是说，薄膜晶体管层140上的第一开口147并非一次成型，而是在制作薄膜晶体管层140中的相应膜层时，在对该膜层进行图案化处理的同时即在对应区域形成开口，当薄膜晶体管层140制作完成时，第一开口147也就形成，此种设计方式无需在制作完薄膜晶体管层140后再单独形成第一开口147，从而节省光罩次数，简化显示面板100的制作工序。
73.在一些实施例中，如图2所示，缓冲层141上开设有第五开口1411，第五开口1411露出遮光层130，阳极161的第二本体1613位于缓冲层141上，第二本体1613通过第五开口1411与遮光层130电连接，连接部1612则位于第一子开口1471的侧壁上，通过第二本体1613与遮光层130电连接，遮光层130与源极电连接，实现阳极161与源极的电连接。
74.此种设计方式使得阳极161的第二本体1613与薄膜晶体管层140中的有源层142同层设置，相对于将第二本体1613设置在钝化层150上而言，能够减小显示面板100的整体厚度；此外，第二本体1613仅位于第一子开口1471的侧壁上，相对于同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上而言，能够减小连接部1612的爬坡高度，降低连接部1612发生断裂的风险。
75.在另一些实施例中，如图3所示，第二绝缘层145上开设有第六开口1451，第六开口1451露出遮光层130，阳极161的第二本体1613位于第二绝缘层145上，第二本体1613通过第六开口1451与遮光层130电连接，连接部1612则位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上，通过第二本体1613与遮光层130电连接，遮光层130与源极电连接，实现阳极161与源极的电连接。
76.此种设计方式使得阳极161的第二本体1613与薄膜晶体管层140中的源漏极层146同层设置，相对于将第二本体1613设置在钝化层150上而言，能够减小显示面板100的整体厚度；此外，第二本体1613位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上，即第二本体1613仅位于第一开口147的侧壁上，相对于同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上而言，能够减小连接部1612的爬坡高度，降低连接部1612发生断裂的风险。
77.需要说明的是，在形成第一子开口1471和第二子开口1472时，第二子开口1472的侧壁与第一子开口1471的侧壁之间形成有台阶，即第一开口147整体沿远离衬底基板110的方向逐渐扩张，且第二子开口1472靠近第一子开口1471的一侧的横截面积大于第一子开口1471面向第二子开口1472的一侧的横截面积。
78.当连接部1612仅位于第一子开口1471的侧壁上时，该台阶用于设置阳极161的第二本体1613，使第二本体1613与有源层142同层设置；当连接部1612同时位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上时，该台阶能够对连接部1612进行缓冲，避免连接部1612爬坡高度过大而出现断裂，保证阳极161整体结构的稳定性。
79.可选的，无机层120的材质包括无定形硅、氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种，采用此种类型的无机材料制作无机层120，在保证无机层120自身表面的粗糙度小且平整度高的同时，能够避免衬底基板110中的杂质离子进入阳极161的第二本体1613中，从而避免衬底基板110中的杂质离子对显示面板100的显示效果产生影响。
80.可选的，无机层120的厚度大于或等于50nm且小于或等于1000nm。若无机层120的厚度过小，则可能无法有效起到对衬底基板110表面的平坦化作用，以及对衬底基板110中杂质离子的隔绝作用；若无机层120的厚度过大，则会导致显示面板100的整体厚度过大，不
利于显示面板100的轻薄化设计。
81.在实际制作过程中，能够将无机层120的厚度设置为50nm、100nm、200nm、500nm、800nm或者1000nm等，既能保证无机层120对衬底基板110表面的平坦化作用，以及对衬底基板110中杂质离子的隔绝作用，也能避免显示面板100的整体厚度过大。其中，无机层120的厚度的具体值能够根据实际情况进行相应调整，此处不做特殊限制。
82.其次，本技术实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板，该显示面板的具体结构参照上述实施例，由于本显示装置采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。
83.如图4所示，显示装置10包括显示面板100、控制电路200及壳体300。其中，壳体300与显示面板100连接以对显示面板100进行支撑和固定，控制电路200设置在壳体300内，且控制电路200与显示面板100电连接，以控制显示面板100进行画面显示。
84.其中，显示面板100可以固定到壳体300上，与壳体300形成一个整体，显示面板100和壳体300形成密闭空间，用以容纳控制电路200。控制电路200可以为显示装置10的主板，同时，控制电路200上还可以集成有电池、天线结构、麦克风、扬声器、耳机接口、通用串行总线接口、摄像头、距离传感器、环境光传感器以及处理器等功能组件中的一个或多个，以使显示装置10能适应于各种应用领域。
85.需要说明的是，显示装置10并不限于以上内容，其还可以包括其他器件，比如还可以包括摄像头、天线结构、指纹解锁模块等，以扩大其使用范围，此处不作限制。
86.本技术实施例中的显示装置10应用范围十分广泛，包括电视机、电脑、移动电话、可折叠以及可卷曲显示屏等柔性显示及照明，以及可穿戴设备如智能手环、智能手表等，均在本技术实施例中的显示装置10所属应用领域范围内。
87.最后，本技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，能够用于制作上述实施例中的显示面板100，如图5所示，显示面板的制作方法主要包括以下步骤：
88.s100、提供一衬底基板110。
89.在制作显示面板100时，首先需要提供一衬底基板110，并对衬底基板110进行清洗，以便于在衬底基板110上进行其他功能结构层的制作。衬底基板110作为显示面板100的支撑结构，用于支撑设置在衬底基板110上的其他功能结构层，以保证显示面板100整体的结构稳定性。其中，衬底基板110可以为玻璃基板或其他材质类型的基板，此处不做限制。
90.s200、在衬底基板110上沉积一层无机层120。
91.衬底基板110准备完毕后，在衬底基板110上沉积一层无机层120，由于无机层120自身表面的粗糙度小且平整性好，在衬底基板110上设置无机层120能够对衬底基板110表面进行平坦化处理，其中，无机层120和衬底基板110整体则可以看做为一个平坦化层，有助于后续膜层的制作。
92.其中，在衬底基板110上形成无机层120时，无机层120能够为整面设置，以减少光罩次数，或者根据需求对无机层120进行图案化处理，仅保留部分无机层120，以减小显示面板100的整体厚度，其具体设置方式能够根据实际设计需求进行相应选择，此处不做特殊限制。
93.s300、在无机层120上形成薄膜晶体管层140，并在薄膜晶体管层140上形成第一开口147，使第一开口147部分露出无机层120，薄膜晶体管层140包括源漏极层146。
94.如图6所示，在衬底基板110上形成无机层120后，在无机层120上形成薄膜晶体管层140，并在薄膜晶体管层140上形成第一开口147，使第一开口147部分露出无机层120，以便于后续膜层在无机层120上的制作。其中，薄膜晶体管层140包括源漏极层146，源漏极层146则用于与其他膜层进行连接，以实现薄膜晶体管层140对其他膜层的控制。
95.s400、沉积一层阳极层160，使阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，阳极层160与源漏极层146电连接。
96.如图7所示，完成薄膜晶体管层140的制作后，继续沉积一层阳极层160，使阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，由于无机层120自身粗糙度小且平整性好，从而使得位于无机层120上的阳极层160的平整度也较好，有助于提高后续膜层的均匀性，从而改善显示面板100显示不均的问题。
97.此外，由于衬底基板110中含有多种杂质离子，通过在衬底基板110上设置无机层120，还能够将衬底基板110与对应的阳极层160隔开，避免衬底基板110中的杂质离子进入阳极层160内，从而影响显示面板100的显示效果。
98.其中，阳极层160与薄膜晶体管层140中的源漏极层146电连接，以使阳极层160与对应的薄膜晶体管层140中的薄膜晶体管电连接，以实现对阳极层160上信号导通与断开的控制，从而实现对显示面板100显示方式的调控。
99.需要说明的是，阳极层160与源漏极层146电连接可以是阳极层160与源漏极层146直接连接，或者阳极层160通过其他结构与源漏极层146间接连接，其连接方式与阳极层160的具体结构设计方式相关。
100.可选的，源漏极层146包括源极，阳极层160包括阳极161，阳极161包括依次连接的第一本体1611、连接部1612和第二本体1613。第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，用于后续膜层在阳极层160上的制作；连接部1612位于第一开口147的侧壁上，以便于第一本体1611与其他结构的连接设计；第二本体1613则与源漏极层146电连接，以实现阳极161与源漏极层146的电连接。
101.具体的，如图8所示，步骤s400中沉积一层阳极层160，使阳极层160部分位于第一开口147露出的无机层120上，阳极层160与源漏极层146电连接，主要包括以下步骤：
102.s410、在薄膜晶体管层140上形成一层钝化层150，并在钝化层150上对应第一开口147的位置形成第二开口151，在钝化层150上对应源极的位置形成第三开口152。
103.在无机层120上形成薄膜晶体管层140后，需要在薄膜晶体管层140上形成一层钝化层150，以将薄膜晶体管层140与后续膜层隔开。在钝化层150上对应第一开口147的位置形成第二开口151，且第二开口151与第一开口147连通，以使对应的无机层120露出，便于后续膜层在无机层120上的制作。在钝化层150上对应源极的位置形成第三开口152，使源极露出，以便于后续膜层与源极的连接。
104.s420、在钝化层150上沉积一层阳极层160，使第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，使连接部1612位于第一开口147和第二开口151的侧壁上，使第二本体1613位于钝化层150上，第二本体1613通过第三开口152与源极电连接。
105.完成钝化层150的制作后，在钝化层150上沉积一层阳极层160，使第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，以保证第一本体1611的平整度，有助于后续膜层在第一本体1611上的制作；使连接部1612位于第一开口147和第二开口151的侧壁上，第二本体
1613位于钝化层150上，且第二本体1613通过第三开口152与源极电连接，从而实现阳极161与源极的电连接。
106.其中，由于阳极161的连接部1612同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上，使得连接部1612在第一本体1611与第二本体1613之间的爬坡高度较大。在钝化层150上形成第二开口151的过程中，能够在第一开口147与第二开口151的侧壁之间形成一个台阶，使得在沉积阳极161的过程中能够在台阶上形成缓冲，降低阳极161的连接部1612在第一开口147和第二开口151的侧壁上发生断裂的风险。
107.需要说明的是，阳极161与源极的电连接可以是阳极161与源极直接连接，或者阳极161通过其他结构与源极间接连接，其连接方式与阳极161的具体结构设计相关。其中，第二本体1613的设置位置能够根据阳极161和源极的连接方式进行调整，当第二本体1613的设置位置发生变化时，连接部1612在第一开口147的侧壁上的形成区域也会随之发生变化，以确保阳极161整体与源极的电连接。
108.可选的，薄膜晶体管层140包括沿远离遮光层130的方向依次设置的缓冲层141、有源层142、第一绝缘层143、栅极层144、第二绝缘层145和源漏极层146。缓冲层141上开设有第一子开口1471，第一子开口1471露出无机层120，第二绝缘层145上对应第一子开口1471的位置开设有第二子开口1472，第一子开口1471和第二子开口1472共同形成薄膜晶体管层140中的第一开口147。
109.在一些实施例中，缓冲层141上开设有第五开口1411，第五开口1411露出遮光层130。在沉积阳极层160时，使第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，第二本体1613位于缓冲层141上，第二本体1613通过第五开口1411与遮光层130电连接，连接部1612则位于第一子开口1471的侧壁上，通过第二本体1613与遮光层130电连接，遮光层130与源极电连接，实现阳极161与源极的电连接。
110.此种设计方式使得阳极161的第二本体1613与薄膜晶体管层140中的有源层142同层设置，相对于将第二本体1613设置在钝化层150上而言，能够减小显示面板100的整体厚度；此外，第二本体1613仅位于第一子开口1471的侧壁上，相对于同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上而言，能够减小连接部1612的爬坡高度，降低连接部1612发生断裂的风险。
111.在另一些实施例中，第二绝缘层145上开设有第六开口1451，第六开口1451露出遮光层130。在沉积阳极层160时，使第一本体1611位于第一开口147露出的无机层120上，第二本体1613位于第二绝缘层145上，第二本体1613通过第六开口1451与遮光层130电连接，连接部1612则位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上，通过第二本体1613与遮光层130电连接，遮光层130与源极电连接，实现阳极161与源极的电连接。
112.此种设计方式使得阳极161的第二本体1613与薄膜晶体管层140中的源漏极层146同层设置，相对于将第二本体1613设置在钝化层150上而言，能够减小显示面板100的整体厚度；此外，第二本体1613位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上，即第二本体1613仅位于第一开口147的侧壁上，相对于同时位于第一开口147和第二开口151的侧壁上而言，能够减小连接部1612的爬坡高度，降低连接部1612发生断裂的风险。
113.需要说明的是，在形成第一子开口1471和第二子开口1472时，第二子开口1472的侧壁与第一子开口1471的侧壁之间形成有台阶，即第一开口147整体沿远离衬底基板110的
方向逐渐扩张，且第二子开口1472靠近第一子开口1471的一侧的横截面积大于第一子开口1471面向第二子开口1472的一侧的横截面积。
114.当连接部1612仅位于第一子开口1471的侧壁上时，该台阶用于设置阳极161的第二本体1613，使第二本体1613与有源层142同层设置；当连接部1612同时位于第一子开口1471和第二子开口1472的侧壁上时，该台阶能够对连接部1612进行缓冲，避免连接部1612爬坡高度过大而出现断裂，保证阳极161整体结构的稳定性。
115.可选的，本技术实施例中显示面板100的制作方法还包括像素定义层170和发光层180的制作，具体步骤包括：先在钝化层150上形成像素定义层170，并在像素定义层170上形成第四开口171，使第四开口171露出第一本体1611；然后在第一本体1611上形成发光层180。
116.其中，当在像素定义层170上形成第四开口171时，第四开口171仅露出第一本体1611，即像素定义层170覆盖阳极161的第二本体1613和连接部1612，使得发光层180仅与阳极161的第一本体1611接触。由于第一本体1611位于无机层120上，使得第一本体1611表面平整度较好，有利于保证发光层180的厚度均匀性，从而有助于改善显示面板100显示不均的问题。
117.在一些实施例中，像素定义层170上开设的第四开口171的侧壁呈阶梯状，且第四开口171沿远离衬底基板110的方向逐渐扩张；此外，像素定义层170所用的材质呈疏水性，使得在采用喷墨打印的方式在第一本体1611上形成发光层180时，即使打印喷嘴的位置存在一定偏差，打印墨水也能够沿着第四开口171的侧壁流入第四开口171内，从而保证发光层180整体的厚度均匀性，改善显示面板100的显示效果。
118.可选的，本技术实施例中在形成薄膜晶体管层140之前，还包括遮光层130的形成。通过在衬底基板110与薄膜晶体管层140之间形成遮光层130，能够利用遮光层130对外界环境光进行遮挡，避免外界环境光照射在有源层142上对有源层142结构造成影响，从而影响薄膜晶体管层140的正常使用。
119.在一些实施例中，遮光层130位于无机层120上，即无机层120在衬底基板110上为整面设置，使得在衬底基板110上沉积一层无机层120后，无需对无机层120进行图案化处理，以减少制程中的光罩次数。此时，遮光层130与阳极161中位于无机层120上的第一本体1611同层设置，且遮光层130与第一本体1611之间通过缓冲层141进行绝缘隔开，以便于阳极161与源漏极层146之间的电连接设计。
120.在另一些实施例中，遮光层130与无机层120同层设置，即无机层120的设置位置与阳极161中第一本体1611的设置位置相对应，以实现对第一本体1611制作表面的平坦化，并将衬底基板110与第一本体1611隔离，避免衬底基板110中的杂质离子进入第一本体1611内，从而保证显示面板100的正常显示。此过程中在衬底基板110上形成无机层120之后，需要对无机层120进行图案化处理，仅保留与第一本体1611相对应的部分，此种结构设计方式有助于减小显示面板100的整体厚度。
121.需要说明的是，本技术实施例中的阳极层160可以为双层结构，其靠近衬底基板110的一侧为银等具有反射作用的反射层，其远离衬底基板110的一侧则为氧化铟锡等透明电极，反射层和透明电极共同组成阳极层160。其中，反射层能够将外部环境照射进的光进行反射，从而起到遮光的作用，避免外部环境光对显示面板100的显示效果产生影响。
122.因此，阳极层160自身具有遮光的作用，在对遮光层130进行图案化处理时，能够将图案化的遮光层130设置在阳极161所在区域的周围，阳极161面向衬底基板110的一侧则无需单独设置遮光层130。
123.以上对本技术实施例所提供的一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。
技术特征：1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；无机层，设置在所述衬底基板上；薄膜晶体管层，设置在所述无机层上；所述薄膜晶体管层上开设有第一开口，所述第一开口部分露出所述无机层；所述薄膜晶体管层包括源漏极层；阳极层，部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阳极层包括阳极，所述阳极包括依次连接的第一本体、连接部和第二本体，所述第一本体位于所述第一开口露出的无机层上，所述连接部位于所述第一开口的侧壁上，所述第二本体与所述源漏极层电连接。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括遮光层，所述遮光层位于所述衬底基板和所述薄膜晶体管层之间；所述薄膜晶体管层包括沿远离所述遮光层的方向依次设置的缓冲层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层和所述源漏极层，所述源漏极层包括源极，所述源极与所述遮光层电连接；所述遮光层位于所述无机层上；或，所述遮光层与所述无机层同层设置。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括钝化层，所述钝化层设置在所述薄膜晶体管层上，所述钝化层上对应所述第一开口的位置开设有第二开口，所述钝化层上对应所述源极的位置开设有第三开口；所述阳极的第二本体位于所述钝化层上，所述第二本体通过所述第三开口与所述源极电连接，所述阳极的连接部位于所述第一开口和所述第二开口的侧壁上。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括像素定义层和发光层，所述像素定义层位于所述钝化层上，所述像素定义层上开设有第四开口，所述第四开口露出所述第一本体，所述发光层位于所述第一本体上。6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述缓冲层上开设有第一子开口，所述第一子开口露出所述无机层，所述第二绝缘层上对应所述第一子开口的位置开设有第二子开口，所述第一子开口与所述第二子开口形成所述第一开口；所述缓冲层上开设有第五开口，所述第五开口露出所述遮光层，所述阳极层的第二本体位于所述缓冲层上，所述第二本体通过所述第五开口与所述遮光层电连接，所述连接部位于所述第一子开口的侧壁上。7.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述缓冲层上开设有第一子开口，所述第一子开口露出所述无机层，所述第二绝缘层上对应所述第一子开口的位置开设有第二子开口，所述第一子开口与所述第二子开口形成所述第一开口；所述第二绝缘层上开设有第六开口，所述第六开口露出所述遮光层，所述阳极的第二本体位于所述第二绝缘层上，所述第二本体通过所述第六开口与所述遮光层电连接，所述连接部位于所述第一子开口和所述第二子开口的侧壁上。8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机层的材质包括无定形硅、氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机层的厚度大于或等于50nm且小于或等于1000nm。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至9任一项所述的显示面板。11.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上沉积一层无机层；在所述无机层上形成薄膜晶体管层，并在所述薄膜晶体管层上形成第一开口，使所述第一开口部分露出所述无机层，所述薄膜晶体管层包括源漏极层；沉积一层阳极层，使所述阳极层部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接。12.根据权利要求11所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述源漏极层包括源极，所述阳极层包括阳极，所述阳极包括依次连接的第一本体、连接部和第二本体；所述沉积一层阳极层，使所述阳极层部分位于所述第一开口露出的无机层上，所述阳极层与所述源漏极层电连接，包括：在所述薄膜晶体管层上形成一层钝化层，并在所述钝化层上对应所述第一开口的位置形成第二开口，在所述钝化层上对应所述源极的位置形成第三开口；在所述钝化层上沉积一层阳极层，使所述第一本体位于所述第一开口露出的无机层上，使所述连接部位于所述第一开口和所述第二开口的侧壁上，使所述第二本体位于所述钝化层上，所述第二本体通过所述第三开口与所述源极电连接。13.根据权利要求12所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述钝化层上形成像素定义层，并在所述像素定义层上形成第四开口，使所述第四开口露出所述第一本体；在所述第一本体上形成发光层。
技术总结本申请实施例公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。显示面板包括衬底基板、无机层、薄膜晶体管层和阳极层，无机层设置在衬底基板上，薄膜晶体管层设置在无机层上，薄膜晶体管层上开设有第一开口，第一开口部分露出无机层，薄膜晶体管层包括源漏极层，阳极层部分位于第一开口露出的无机层上，阳极层与源漏极层电连接。本申请通过在衬底基板上设置无机层，使无机层与衬底基板整体形成平坦化层，并通过在薄膜晶体管层上开设第一开口，使阳极层部分位于第一开口露出的无机层上，从而保证位于无机层上的阳极层的平整性，以改善显示面板显示不均的问题。示面板显示不均的问题。示面板显示不均的问题。
技术研发人员：覃事建 袁夏梁
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.07.05
技术公布日：2022/11/1
