1.本技术涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术：2.为降低oled面板(organic light emitting diodes，有机发光半导体)的反射率，会在模组结构中增加圆偏光片，通过相位变化降低反射率。但是偏光片的透过率只有不到50％，这意味着想达到无偏光片状态下相同亮度器件效率和面板功耗要提高一倍。
3.为降低面板功耗，用透过率更高的彩膜层(cf)替换掉偏光片即去偏光片技术(pol-less)，在保证反射率的前提下，提升整机透过率，降低功耗。
4.在传统的显示面板设计中，存在以下问题：为制备红色色阻r、绿色色阻g、蓝色色阻b、黑色矩阵bm的制程上一般要用到4张光罩，成本较高；高透过率的色阻材料意味着去偏光片技术很难达成极低的反射率，因此制程成本较高；黑色矩阵会导致亮度视角恶化等问题，为解决上述问题，亟需做出改进。
技术实现要素：5.本技术的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法，可以解决现有的去偏光片显示面板中光罩数量多、成本高、显示视角不佳等技术问题。
6.为实现上述目的，本技术提供一种显示面板，包括：阵列基板；发光结构，设于所述阵列基板的一侧；以及彩膜层，设于所述发光结构远离所述阵列基板的一侧；其中，所述彩膜层包括重叠区以及单色区。
7.进一步地，所述发光层包括：像素定义层，设于所述阵列基板的一侧，所述像素定义层上设有发光区以及非发光区；以及发光层，设于所述发光区内；其中，所述彩膜层的所述重叠区与所述像素定义层的所述非发光区相对设置；所述彩膜层的所述单色区与所述像素定义层的所述发光区相对设置。
8.进一步地，所述重叠区内包括两种不同颜色的色阻，分别为第一色阻以及第二色阻，所述第一色阻与所述第二色阻叠层设置。
9.进一步地，所述第一色阻到所述发光结构的距离大于所述第二色阻到所述发光结构的距离。
10.进一步地，所述第一色阻的厚度为其相邻单色区内同色色阻厚度的50％～70％。
11.进一步地，所述第二色阻的视角优于所述第一色阻的视角。
12.进一步地，所述像素定义层的颜色包括透明、黑色、灰色中的一种。
13.为实现上述目的，本技术还提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一阵列基板；在所述阵列基板上制备发光结构；以及在所述发光结构上制备彩膜层；其中，在所述发光结构上制备彩膜层的步骤包括：在一基底上制备第一色阻；采用半刻工艺图案化处理所述第一色阻，形成不同厚度的第一色阻，其中，厚度大的部分作为单色区，厚度小的部分作为重叠区的一部分；在所述基底上制备第二色阻，所述第二色阻部分叠设于厚度小
的所述第一色阻上，形成重叠区。
14.进一步地，在所述发光结构上制备彩膜层的步骤之前，所述显示面板的制备方法还包括：根据不同色阻材料的反射谱，判断所述不同色阻材料的视角，视角差的色阻材料的制作工序早于视角优的色阻材料。
15.进一步地，所述显示面板的制备方法还包括：根据所述彩膜层的光谱图，判断所述光谱图中是否有重叠区域；如有重合区域，则将所述发光结构中的像素定义层做成黑色或灰色像素定义层；如没有重合区域，则将所述发光结构中的像素定义层做成透明像素定义层。
16.本技术的技术效果在于，将彩膜层中的不同颜色的色阻做成上下叠层的结构，形成重叠区，相当于黑色矩阵的遮光作用，可以节省黑色矩阵的光罩制程，降低生产成本。同时，更改不同颜色色阻的位置在降低反射率的同时可以进一步改善视角，提高显示面板的显示效果以及显示视角。
附图说明
17.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
18.图1是本技术实施例提供的显示面板的结构示意图；
19.图2是本技术实施例提供的彩膜层的光谱图；
20.图3是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
21.图4是本技术实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
22.图5是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。
23.附图标记说明：
24.100、阵列基板；200、发光结构；300、彩膜层；
25.201、发光区；202、非发光区；
26.210、像素定义层；220、发光层；
27.301、单色区；302、重叠区；
28.310、第一色阻；320、第二色阻；330、第三色阻；
29.10、重合区域；20、半峰宽。
具体实施方式
30.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
31.如图1至图5所示，本技术实施例提供一种显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
32.如图1所示，本实施例提供一种显示面板，包括：阵列基板100、发光结构200以及彩膜层300。为了降低显示面板的功耗，本实施例中采用透过率更高的彩膜层替换掉原有的偏光片，即为去偏光片技术(pol-less)，在保证反射率的前提下，能提升整机的透过率，降低功耗。
33.所述阵列基板100为所述显示面板的驱动电路组件，起到控制电路开关的作用，所述阵列基板100内一般包括多个薄膜晶体管，具有有源层、栅极绝缘层、栅极层、介电层、源漏极层等膜层结构，在本实施例中不作详细描述。
34.所述发光结构200设于所述阵列基板100的一侧，在本实施例中，所述发光结构200设于所述阵列基板100的上表面。所述发光结构200包括像素定义层210和发光层220，分为发光区201以及非发光区202，所述发光层220所在区域即为所述发光区201，所述像素定义层210所在区域即为所述非发光区202。
35.所述像素定义层210上设有若干通孔，用来定义所述发光区201的大小，所述发光层220则设于所述通孔内，形成所述发光区201，在图1所示出的结构图中，只给出一组三个不同颜色的发光层220作为示例，实际是有若干组不同颜色的发光层。
36.所述彩膜层300设于所述发光结构200远离所述阵列基板100的一侧，所述彩膜层300包括单色区301以及重叠区302。所述彩膜层300的所述重叠区302与所述像素定义层210的所述非发光区202相对设置，所述彩膜层300的所述单色区301与所述像素定义层210的所述发光区201相对设置。
37.所述彩膜层300包括三种不同颜色的色阻，示例为第一色阻310、第二色阻320以及第三色阻330，在本实施例中，以所述第一色阻310为蓝色色阻、所述第二色阻320为红色色阻、所述第三色阻330为绿色色阻为例进行进一步说明。
38.所述彩膜层300上单色色阻的设计线宽在超出所述发光区201的区域刚好覆盖阵列基板侧的像素定义层210的材料宽度，所述重叠区301刚好在所述像素定义层210的正上方重叠，所述重叠区301的效果等同于黑色矩阵具有良好的遮光效果，因此可以达成省光罩、降低成本的目的。
39.所述重叠区302内包括两种不同颜色的色阻，以所述第一色阻310以及所述第二色阻320为例，所述第一色阻310与所述第二色阻320叠层设置。所述重叠区302内所述第一色阻310的厚度为其相邻单色区301内同色色阻厚度的50％～70％。所述第一色阻310到所述发光结构200的距离大于所述第二色阻320到所述发光结构200的距离，即所述第一色阻310设于所述第二色阻320的上方。其余重叠区320内的色阻重叠方式与此相同，从截面形状上看，均为“z”字形。
40.虽然单色色阻在制作工艺中的顺序并不会影响反射率的大小，但是会影响反射色相和视角，所以对于不同色阻的上下叠放顺序，需要根据不同色阻材料的反射谱来确定。判断所述不同色阻材料的视角，视角差的色阻材料的制作工序早于视角优的色阻材料，所以视角差的色阻位于视角优的色阻的上方。因为所述第三色阻的视角优于所述第二色阻的视角，所述第二色阻的视角优于所述第一色阻的视角，所以所述第一色阻310位于所述第二色阻320上方，所述第二色阻320位于所述第三色阻330上方，即蓝色色阻位于红色色阻上方，
红色色阻位于绿色色阻上方。
41.如图4所示，因为蓝色色阻的视角较差，所以将蓝色色阻均作为所述重叠区302中上方的色阻，即出光侧，其他两种颜色的色阻则放在下方，所以会出现“凸”字形结构的色阻，进一步地，可增加所述重叠区302内蓝色色阻的厚度，进一步改善蓝光的视角。
42.在本实施例中，所述像素定义层210的材料颜色会根据所述彩膜层300的光穿透率的光谱图来确定，光谱图参见图2，图中用虚线圈圈出来的部分即为光谱图中的重合区域10，因为有所述重合区域10的存在，需要将所述像素定义层210做成黑色或灰色像素定义层(参见图3)，用来降低散射率。如光谱图中没有所述重合区域10的存在，将所述像素定义层210做成透明像素定义层即可，无需进一步降低散射率。
43.优选地，所述彩膜层300的穿透率应该尽量没有重合区域10的存在，当单色的彩膜层光谱越窄，即附图2中的半峰宽20越窄，则反射率越小，所以可以通过调节所述彩膜层300的透过谱半峰宽可以改善去偏光片技术中关于反射率的问题，即改善去偏光片显示面板的反射率。
44.本实施例所述显示面板的技术效果在于，将彩膜层中的不同颜色的色阻做成上下叠层的结构，形成重叠区，相当于黑色矩阵的遮光作用，可以节省黑色矩阵的光罩制程，降低生产成本。同时，更改不同颜色色阻的位置在降低反射率的同时可以进一步改善视角，提高显示面板的显示效果以及显示视角。
45.如图5所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括步骤s1～s3。
46.s1提供一阵列基板100，依次制备有源层、栅极绝缘层、栅极层、介电层、源漏极层等膜层结构，具体制程在本实施例中不作详细描述，所述阵列基板100为所述显示面板的驱动电路组件，起到控制电路开关的作用。
47.s2在所述阵列基板100上制备发光结构200，包括制备出像素定义层210和发光层220，所述发光层220所在区域形成发光区201，所述像素定义层210所在区域形成非发光区202。
48.所述彩膜层300包括三种不同颜色的色阻，示例为第一色阻310、第二色阻320以及第三色阻330，在本实施例中，以所述第一色阻310为蓝色色阻、所述第二色阻320为红色色阻、所述第三色阻330为绿色色阻为例进行进一步说明。
49.根据不同色阻材料的反射谱，判断所述不同色阻材料的视角，视角差的色阻材料的制作工序需早于视角优的色阻材料。
50.根据如图2所示的所述彩膜层的光谱图，判断所述光谱图中是否有重叠区域10，如有重合区域10，则将所述发光结构200中的像素定义层210做成黑色或灰色像素定义层；如没有重合区域10，则将所述发光结构200中的像素定义层210做成透明像素定义层。
51.s3在所述发光结构200上制备彩膜层300，具体地，包括以下步骤：在一基底上制备第一色阻310，采用半刻工艺图案化处理所述第一色阻310，形成不同厚度的第一色阻310，其中，厚度大的部分作为单色区301，厚度小的部分作为重叠区302的一部分，在所述基底上制备第二色,320，所述第二色阻320部分叠设于厚度小的所述第一色阻310上，形成重叠区302(参见图1)。
52.所述彩膜层300上单色色阻的设计线宽在超出所述发光区201的区域刚好覆盖阵列基板侧的像素定义层210的材料宽度，所述重叠区301在制程上刚好在所述像素定义层
210的正上方重叠，所述重叠区301的效果等同于黑色矩阵具有良好的遮光效果，因此可以达成省光罩、降低成本的目的。
53.所述重叠区302内包括两种不同颜色的色阻，以所述第一色阻310以及所述第二色阻320为例，所述第一色阻310与所述第二色阻320叠层设置。所述重叠区302内所述第一色阻310的厚度为其相邻单色区301内同色色阻厚度的50％～70％。所述第一色阻310到所述发光结构200的距离大于所述第二色阻320到所述发光结构200的距离，即所述第一色阻310设于所述第二色阻320的上方。其余重叠区320内的色阻重叠方式与此相同，从截面形状上看，均为“z”字形。
54.虽然单色色阻在制作工艺中的顺序并不会影响反射率的大小，但是会影响反射色相和视角，所以对于不同色阻的上下叠放顺序，需要根据不同色阻材料的反射谱来确定。判断所述不同色阻材料的视角，视角差的色阻材料的制作工序早于视角优的色阻材料，所以视角差的色阻位于视角优的色阻的上方。因为所述第三色阻的视角优于所述第二色阻的视角，所述第二色阻的视角优于所述第一色阻的视角，所以所述第一色阻310位于所述第二色阻320上方，所述第二色阻320位于所述第三色阻330上方，即蓝色色阻位于红色色阻上方，红色色阻位于绿色色阻上方。
55.如图4所示，因为蓝色色阻的视角较差，所以均先制作蓝色色阻为所述重叠区302中上方的色阻，即出光侧，其他两种颜色的色阻则后续制作，放在下方，所以会出现“凸”字形结构的色阻，进一步地，可增加所述重叠区302内蓝色色阻的厚度，进一步改善蓝光的视角。
56.在本实施例中，所述像素定义层210的材料颜色会根据所述彩膜层300的光穿透率的光谱图来确定，光谱图参见图2，图中用虚线圈圈出来的部分即为光谱图中的重合区域10，因为有所述重合区域10的存在，需要将所述像素定义层210做成黑色或灰色像素定义层(参见图3)，用来降低散射率。如光谱图中没有所述重合区域10的存在，将所述像素定义层210做成透明像素定义层即可，无需进一步降低散射率。
57.优选地，所述彩膜层300的穿透率应该尽量没有重合区域10的存在，当单色的彩膜层光谱越窄，即附图2中的半峰宽20越窄，则反射率越小，所以可以通过调节所述彩膜层300的透过谱半峰宽可以改善去偏光片技术中关于反射率的问题，即改善去偏光片显示面板的反射率。
58.本实施例所述显示面板的制备方法的技术效果在于，将彩膜层中的不同颜色的色阻做成上下叠层的结构，形成重叠区，相当于黑色矩阵的遮光作用，可以节省黑色矩阵的光罩制程，降低生产成本。同时，更改不同颜色色阻的位置，先制作视角差的色阻，再制作视角佳的色阻，在降低反射率的同时可以进一步改善视角，提高显示面板的显示效果以及显示视角。
59.以上对本技术实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。
技术特征：1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板；发光结构，设于所述阵列基板的一侧；以及彩膜层，设于所述发光结构远离所述阵列基板的一侧；其中，所述彩膜层包括重叠区以及单色区。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光层包括：像素定义层，设于所述阵列基板的一侧，所述像素定义层上设有发光区以及非发光区；以及发光层，设于所述发光区内；其中，所述彩膜层的所述重叠区与所述像素定义层的所述非发光区相对设置；所述彩膜层的所述单色区与所述像素定义层的所述发光区相对设置。3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述重叠区内包括两种不同颜色的色阻，分别为第一色阻以及第二色阻，所述第一色阻与所述第二色阻叠层设置。4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻到所述发光结构的距离大于所述第二色阻到所述发光结构的距离。5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻的厚度为其相邻单色区内同色色阻厚度的50％～70％。6.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二色阻的视角优于所述第一色阻的视角。7.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层的颜色包括透明、黑色、灰色中的一种。8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一阵列基板；在所述阵列基板上制备发光结构；以及在所述发光结构上制备彩膜层；其中，在所述发光结构上制备彩膜层的步骤包括：在一基底上制备第一色阻；采用半刻工艺图案化处理所述第一色阻，形成不同厚度的第一色阻，其中，厚度大的部分作为单色区，厚度小的部分作为重叠区的一部分；在所述基底上制备第二色阻，所述第二色阻部分叠设于厚度小的所述第一色阻上，形成重叠区。9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述发光结构上制备彩膜层的步骤之前，还包括：根据不同色阻材料的反射谱，判断所述不同色阻材料的视角，视角差的色阻材料的制作工序早于视角优的色阻材料。10.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括：根据所述彩膜层的光谱图，判断所述光谱图中是否有重叠区域；
如有重合区域，则将所述发光结构中的像素定义层做成黑色或灰色像素定义层；如没有重合区域，则将所述发光结构中的像素定义层做成透明像素定义层。
技术总结本申请公开了一种显示面板及其制备方法，所述显示面板包括：阵列基板；发光结构，设于所述阵列基板的一侧；以及彩膜层，设于所述发光结构远离所述阵列基板的一侧；其中，所述彩膜层包括重叠区以及单色区。本申请的技术效果在于，节省光罩，降低成本，在降低反射率的同时改善显示面板的显示视角。善显示面板的显示视角。善显示面板的显示视角。
技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.07.05
技术公布日：2022/11/1
