1.本技术涉及显示领域，具体涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术：2.随着显示面板的快速发展，对大尺寸显示面板的需求也越来越大，但大尺寸显示面板(尤其是顶发光面板)工作时显示中心与中心以外、四周边缘会有内阻压降的问题，因此需额外在显示面板上制作辅助电极，给压降较大的区域额外施加辅助，使整个显示面板工作时画面显示均一稳定。目前大尺寸显示面板主要是通过在显示面板内制作底切结构，配合有机发光材料和阴极蒸镀角不同，使阴极与辅助电极搭接，实现压降改善。但是在现有技术中，需要单独增加光罩进行底切结构的制作，从而导致显示面板制作工序复杂，生产成本较高。
技术实现要素：3.本技术实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，可以解决现有显示面板中底切结构制作工序复杂、生产成本高的问题。
4.本技术实施例提供一种显示面板，包括：
5.衬底基板；
6.薄膜晶体管层，设置在所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；
7.平坦化层，设置在所述薄膜晶体管层上，所述平坦化层上开设有第一开口，所述第一开口露出所述辅助电极；
8.阳极层，设置在所述平坦化层背离所述衬底基板的一侧，所述阳极层包括间隔设置的阳极和连接部，所述连接部与所述辅助电极电连接；所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极凸出有第一凸出部，所述第一凸出部与所述平坦化层形成底切结构；
9.阴极层，设置在所述阳极层背离所述衬底基板的一侧，所述阴极层延伸至所述底切结构内并与所述连接部电连接。
10.可选的，在本技术一些实施例中，所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极还凸出有第二凸出部，所述第二凸出部与所述第一凸出部沿远离所述衬底基板的方向间隔设置；所述第二凸出部与所述第一凸出部形成所述底切结构，所述阴极层与所述第二凸出部电连接。
11.可选的，在本技术一些实施例中，所述连接部包括沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的第一搭接部、第一反射部和第一电极部，所述第一搭接部与所述辅助电极电连接；所述第一搭接部凸出于所述第一反射部面向所述阳极的侧边面，以形成所述第二凸出部；所述第一电极部凸出于所述第一反射部面向所述阳极的侧边面，以形成所述第一凸出部。
12.可选的，在本技术一些实施例中，所述第一凸出部在所述衬底基板上的正投影与所述第二凸出部在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
13.可选的，在本技术一些实施例中，所述阳极包括沿远离所述衬底基板的方向层叠
设置的第二搭接部、第二反射部和第二电极部，所述薄膜晶体管层包括源漏极层，所述第二搭接部与所述源漏极层电连接。
14.可选的，在本技术一些实施例中，所述第一电极部包括氧化铟锡或氧化铟锌；所述第一反射部包括铝镍铜镧合金；所述第一搭接部包括钼或钼钛镍合金。
15.可选的，在本技术一些实施例中，所述显示面板还包括：
16.像素定义层，设置在所述平坦化层和所述阳极层上，所述像素定义层上开设有像素开口，所述像素开口露出部分所述阳极；所述像素定义层上开设有第二开口，所述第二开口露出所述第一凸出部和所述第二凸出部；
17.发光层，设置在所述像素定义层和所述阳极层上，所述发光层部分覆盖所述第二凸出部；所述阴极层覆盖所述发光层并与所述第二凸出部电连接。
18.相应的，本技术实施例还提供一种显示装置，包括上述任一项所述的显示面板。
19.相应的，本技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
20.提供一衬底基板；
21.在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；
22.在所述薄膜晶体管层上形成平坦化层，并在所述平坦化层上形成第一开口，使所述第一开口露出所述辅助电极；
23.在所述平坦化层上形成阳极层，并对所述阳极层进行处理，以形成间隔设置的阳极和连接部，使所述连接部与所述辅助电极电连接；所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极凸出有第一凸出部，所述第一凸出部与所述平坦化层之间具有间隙形成底切结构；
24.在所述阳极层背离所述衬底基板的一侧形成阴极层，使所述阴极层延伸至所述底切结构内并与所述连接部电连接。
25.可选的，在本技术一些实施例中，所述在所述平坦化层上形成阳极层，并对所述阳极层进行处理，以形成间隔设置的阳极和连接部，包括：
26.在所述平坦化层上依次形成搭接层、反射层和电极层，所述搭接层、所述反射层和所述电极层构成阳极层；
27.对所述电极层进行蚀刻，以形成第一电极部和第二电极部；
28.对所述反射层进行蚀刻，以形成第一反射部和第二反射部，使所述第一电极部凸出于所述第一反射部面向所述第二反射部的侧边面并形成第一凸出部；
29.对所述搭接层进行蚀刻，以形成第一搭接部和第二搭接部，使所述第一搭接部凸出于所述第一反射部面向所述第二反射部的侧边面并形成第二凸出部；所述第一搭接部、所述第一反射部和所述第一电极部构成连接部，所述第二搭接部、所述第二反射部和所述第二电极部构成阳极。
30.本技术实施例中显示面板包括依次设置的衬底基板、薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层和阴极层，薄膜晶体管层包括辅助电极，阳极层包括间隔设置的阳极和连接部，连接部与辅助电极电连接，连接部面向阳极的侧边面上朝向阳极凸出有第一凸出部，且第一凸出部与平坦化层形成底切结构，阴极层延伸至底切结构内并与连接部电连接。本技术通过在连接部面向阳极的侧边面上凸出有第一凸出部，使得能够通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层在第一凸出部边缘断开并延伸至第一凸出部下方与连接部搭接，从而实现阴极层与辅
助电极的电连接，进而改善显示面板的显示均匀性。此外，由于底切结构直接形成于阳极层的连接部上，使得底切结构能够在对阳极层进行图案化处理时同时形成，从而减少光罩次数，降低生产成本。
附图说明
31.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
32.图1是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
33.图2是本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
34.图3是本技术实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；
35.图4是本技术实施例提供的一种图3中步骤s200的结构示意图；
36.图5是本技术实施例提供的一种图3中步骤s300的结构示意图；
37.图6是本技术实施例提供的一种图3中步骤s400的结构示意图；
38.图7是本技术实施例提供的一种图3中步骤s400的流程图；
39.图8是本技术实施例提供的一种图7中步骤s410的结构示意图。
40.附图标记说明：
41.42.具体实施方式
43.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
44.本技术实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，以下进行详细说明。需要说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
45.首先，本技术实施例提供一种显示面板，如图1所示，显示面板100包括衬底基板110，衬底基板110作为显示面板100的支撑结构，用于支撑设置于衬底基板110上的其他功能结构层，以保证显示面板100的结构稳定性。其中，衬底基板110能够为玻璃基板或者其他材质类型，此处不做限制。
46.显示面板100包括薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120设置在衬底基板110上，薄膜晶体管层120作为显示面板100的开关控制结构，用于控制显示面板100中发光像素的发光方式，以实现显示面板100不同的显示需求。薄膜晶体管层120中包括辅助电极128，辅助电极128用于与后续膜层连接，以减小显示面板100对应区域的内阻，从而减小内阻压降，提高显示面板100的显示均匀性。
47.显示面板100包括平坦化层140，平坦化层140设置在薄膜晶体管层120上，用于对薄膜晶体管层120表面进行平坦化处理，以便于后续膜层的制作。如图5所示，平坦化层140上对应辅助电极128的位置开设有第一开口141，第一开口141露出辅助电极128，以便于后续膜层与辅助电极128的连接设计。
48.如图1和图8所示，显示面板100包括阳极层150，阳极层150设置在平坦化层140背离衬底基板110的一侧，阳极层150包括间隔设置的阳极155和连接部154，阳极155作为显示面板100中发光像素的控制电极，通过阳极155上信号的导通与断开，即可实现对显示面板100中发光像素发光方式的控制。连接部154与辅助电极128电连接，在制作后续膜层时，通过后续膜层与连接部154的连接设计，即可实现后续膜层与辅助电极128的电连接。
49.其中，连接部154面向阳极155的侧边面上朝向阳极155凸出有第一凸出部1541，且第一凸出部1541与平坦化层140之间具有间隙，即第一凸出部1541与平坦化层140形成了底切结构。在制作后续膜层时，第一凸出部1541能够将后续膜层进行打断，使后续膜层在第一凸出部1541边缘处断开；同时，在第一凸出部1541与平坦化层140之间设置间隙，使得在制作后续膜层时，能够通过调整蒸镀或溅射角度，使后续膜层延伸至第一凸出部1541下方并
与连接部154搭接，从而实现后续膜层与辅助电极128的电连接，进而改善显示面板100的显示均匀性。
50.需要说明的是，第一凸出部1541为阳极层150中连接部154的一部分，即底切结构直接形成在阳极层150的连接部154上，使得在对阳极层150进行图案化处理时能够同时形成底切结构，而无需单独制作，从而能够简化显示面板100中底切结构的制程工序，减少光罩次数，降低显示面板100的制作成本。
51.显示面板100还包括阴极层180，阴极层180设置在阳极层150背离衬底基板110的一侧，阴极层180延伸至底切结构内并与连接部154电连接。即在制作阴极层180时，能够通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层180在第一凸出部1541边缘处断开，阴极层180延伸至第一凸出部1541的下方并与连接部154搭接，以实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
52.在制作显示面板100时，为保证显示面板100具有足够的透光率，需要减小阴极层180的厚度，从而使阴极层180表面内阻较大，造成的内阻压降严重，从而导致显示面板100出现显示不均的问题，严重影响显示面板100的显示效果。通过设置辅助电极128，使阴极层180与辅助电极128电连接，能够减小显示面板100对应区域的内阻，从而减小内阻压降带来的影响，提高显示面板100的显示均匀性，改善显示面板100的显示效果。
53.本技术实施例中显示面板100包括依次设置的衬底基板110、薄膜晶体管层120、平坦化层140、阳极层150和阴极层180，薄膜晶体管层120包括辅助电极128，阳极层150包括间隔设置的阳极155和连接部154，连接部154与辅助电极128电连接，连接部154面向阳极155的侧边面上朝向阳极155凸出有第一凸出部1541，且第一凸出部1541与平坦化层140形成底切结构，阴极层180则延伸至底切结构内并与连接部154电连接。本技术通过在连接部154面向阳极155的侧边面上凸出有第一凸出部1541，使得能够通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层180在第一凸出部1541边缘断开并延伸至第一凸出部1541下方与连接部154搭接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接，进而改善显示面板100的显示均匀性。此外，由于底切结构直接形成于阳极层150的连接部154上，使得底切结构能够在对阳极层150进行图案化处理时同时形成，从而减少光罩次数，降低生产成本。
54.可选的，连接部154面向阳极155的侧边面上朝向阳极155还凸出有第二凸出部1542，且第二凸出部1542与第一凸出部1541沿远离衬底基板110的方向间隔设置，即第二凸出部1542位于平坦化层140上，第一凸出部1541位于第二凸出部1542远离平坦化层140的一侧，且第一凸出部1541与第二凸出部1542之间留有间隙，即第一凸出部1541与第二凸出部1542形成底切结构。
55.此种结构设计使得在制作阴极层180时，第一凸出部1541能够将阴极层180进行打断，使阴极层180在第一凸出部1541边缘处断开，通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层180在延伸至第一凸出部1541下方时，能够直接与第二凸出部1542连接，以实现与辅助电极128的电连接，从而有利于简化阴极层180与辅助电极128电连接的方式，提高阴极层180与辅助电极128的电连接效果。
56.可选的，连接部154包括沿远离衬底基板110的方向层叠设置的第一搭接部1511、第一反射部1521和第一电极部1531。第一搭接部1511与辅助电极128电连接，以实现连接部154与辅助电极128的电连接，同时，第一搭接部1511用于隔绝平坦化层140中的水分，避免水分进入第一反射部1521，影响第一反射部1521的结构稳定性；第一反射部1521则用于对
外部环境光进行反射，避免外部环境光直接照射至显示面板100内部，影响显示面板100的显示效果。
57.其中，第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面，以形成第二凸出部1542，第一电极部1531凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面，以形成第一凸出部1541。通过将连接部154设置为三层结构，利用三层结构自身性质的不同，在对阳极层150进行图案化处理时，通过调节蚀刻工艺，即可在图案化处理的同时形成第一凸出部1541和第二凸出部1542，以在连接部154上形成底切结构，有助于减少光罩次数，降低生产成本。
58.可选的，第一凸出部1541在衬底基板110上的正投影与第二凸出部1542在衬底基板110上的正投影至少部分重叠，即在衬底基板110的厚度方向上，第一凸出部1541至少部分遮挡第二凸出部1542，有助于在阴极层180制作过程中，通过调整蒸镀或溅射角度来调整阴极层180对第二凸出部1542表面的覆盖程度，从而有利于提高阴极层180与连接部154之间的搭接效果，进而减小显示面板100对应区域的内阻压降，改善显示面板100的显示效果。
59.需要说明的是，第一凸出部1541在衬底基板110上的正投影与第二凸出部1542在衬底基板110上的正投影的重叠程度能够根据蒸镀或溅射角度的调整范围进行调节设计，只需确保阴极层180与连接部154的有效搭接，以实现阴极层180与辅助电极128的电连接即可。
60.可选的，本技术实施例中阳极155包括沿远离衬底基板110的方向层叠设置的第二搭接部1512、第二反射部1522和第二电极部1532，薄膜晶体管层120包括源漏极层127，第二搭接部1512用于与源漏极层127电连接，以实现阳极155与源漏极层127的电连接；同时，第二搭接部1512用于隔绝平坦化层140中的水分，避免水分进入第二反射部1522，影响第二反射部1522的结构稳定性。第二反射部1522则用于对外部环境光进行反射，避免外部环境光直接照射至显示面板100内部，影响显示面板100的显示效果。第二电极部1532则用于与发光像素电连接，以实现阳极155对发光像素发光方式的控制，从而实现对显示面板100显示方式的调控。
61.可选的，第一电极部1531包括氧化铟锡或氧化铟锌，即第一电极部1531为透明电极，以实现显示面板100在顶发射显示器中的应用，且第一电极能够被草酸所蚀刻。第一反射部1521包括铝镍铜镧合金，第一搭接部1511包括钼或钼钛镍合金，即第一反射部1521和第一搭接部1511能够被铝酸所蚀刻，但第一反射部1521与第一搭接部1511在铝酸中的蚀刻速度不同，相对于第一搭接部1511而言，第一反射部1521在铝酸中的蚀刻速度更快，从而能够使第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面，以形成第二凸出部1542。也就是说，在利用蚀刻液对阳极层150进行图案化处理的同时即可在连接部154上形成底切结构，从而减少光罩次数，降低生产成本。
62.需要说明的是，本技术实施例中第一电极部1531、第一反射部1521和第一搭接部1511并不局限于上述材质，当第一电极部1531、第一反射部1521和第一搭接部1511的材质发生改变时，对应所用的蚀刻液也随之改变，只需保证在通过蚀刻液对阳极层150进行图案化处理的同时，第一电极部1531凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面形成第一凸出部1541，第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面形成第二凸出部1542即可，此处并不做特殊限制。
63.其中，第二搭接部1512与第一搭接部1511的材质相同，第二反射部1522与第一反
射部1521的材质相同，第二电极部1532与第一电极部1531的材质相同。也就是说，第二搭接部1512与第一搭接部1511同层设置，第二反射部1522与第一反射部1521同层设置，第二电极部1532与第一电极部1531同层设置，在对阳极层150进行图案化处理时，连接部154的结构与阳极155的结构同时形成。
64.也就是说，在对阳极层150进行图案化处理时，第二电极部1532凸出于第二反射部1522面向连接部154的侧边面形成第三凸出部，第二搭接部1512凸出于第二反射部1522面向连接部154的侧边面形成第四凸出部。此种结构设计使得在制作显示面板100时，能够根据显示面板100中各区域内阻压降的分布对辅助电极128的设置位置进行调整，从而对连接部154的设置位置进行调整，只需在对阳极层150进行图案化处理时，根据需求调整蚀刻位置即可，使得显示面板100中底切结构的设置位置更加灵活方便。
65.其中，在完成阳极层150的图案化处理之后，能够对第一电极部1531和第二电极部1532进行热处理，使第一电极部1531和第二电极部1532结晶致密化，提高第一电极部1531和第二电极部1532的结构强度，避免第一电极部1531和第二电极部1532在制作或使用过程中发生坍塌。
66.可选的，薄膜晶体管层120包括遮光层121、栅极层125和源漏极层127，在形成薄膜晶体管层120时，能够将辅助电极128与源漏极层127、栅极层125或遮光层121中的一个同层设置，即辅助电极128与薄膜晶体管层120中的金属层同层设置，使得在对薄膜晶体管层120中的金属层进行图案化处理的同时能够形成辅助电极128，从而简化显示面板100的制程工序，提高生产效率，降低生产成本。
67.可选的，显示面板100还包括像素定义层160，像素定义层160设置在平坦化层140和阳极层150上，像素定义层160上开设有像素开口，用于定义发光像素的位置，像素开口露出部分阳极155，用于后续膜层与阳极155的连接。此外，像素定义层160上还开设有第二开口，第二开口露出连接部154的第一凸出部1541和第二凸出部1542，以便于在制作阴极层180时，阴极层180能够在第一凸出部1541边缘断开，同时与第二凸出部1542搭接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
68.显示面板100包括发光层170，发光层170设置在像素定义层160和阳极层150上，且发光层170部分覆盖第二凸出部1542。在制作发光层170时，第一凸出部1541会将发光层170打断，使发光层170在第一凸出部1541的边缘断开，通过调整发光层170的蒸镀角度，即可使发光层170仅覆盖部分第二凸出部1542，以避免影响阴极层180与第二凸出部1542的搭接。
69.其中，阴极层180设置在发光层170上，阴极层180覆盖发光层170并与第二凸出部1542电连接。即在制作阴极层180时，通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层180完全覆盖发光层170并向第一凸出部1541下方延伸，以使阴极层180与第二凸出部1542搭接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
70.其次，本技术实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板，该显示面板的具体结构参照上述实施例，由于本显示装置采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。
71.如图2所示，显示装置10包括显示面板100、控制电路200及壳体300。其中，壳体300与显示面板100连接以对显示面板100进行支撑和固定，控制电路200设置在壳体300内，且控制电路200与显示面板100电连接，以控制显示面板100进行画面显示。
72.其中，显示面板100可以固定到壳体300上，与壳体300形成一个整体，显示面板100和壳体300形成密闭空间，用以容纳控制电路200。控制电路200可以为显示装置10的主板，同时，控制电路200上还可以集成有电池、天线结构、麦克风、扬声器、耳机接口、通用串行总线接口、摄像头、距离传感器、环境光传感器以及处理器等功能组件中的一个或多个，以使显示装置10能适应于各种应用领域。
73.需要说明的是，显示装置10并不限于以上内容，其还可以包括其他器件，比如还可以包括摄像头、天线结构、指纹解锁模块等，以扩大其使用范围，此处不作限制。
74.本技术实施例中的显示装置10应用范围十分广泛，包括电视机、电脑、移动电话、可折叠以及可卷曲显示屏等柔性显示及照明，以及可穿戴设备如智能手环、智能手表等，均在本技术实施例中的显示装置10所属应用领域范围内。
75.最后，本技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，能够用于制作上述实施例中的显示面板100，如图3所示，显示面板的制作方法主要包括以下步骤：
76.s100、提供一衬底基板110。
77.在制作显示面板100时，首先需要提供一衬底基板110，并对衬底基板110进行清洗，以除去衬底基板110表面的污渍，便于后续膜层的制作。衬底基板110作为显示面板100的支撑结构，用于支撑设置于衬底基板110上的其他功能结构层，以保证显示面板100的结构稳定性。其中，衬底基板110能够为玻璃基板或者其他材质类型，此处不做限制。
78.s200、在衬底基板110上形成薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120包括辅助电极128。
79.如图4所示，衬底基板110准备完毕后，在衬底基板110上形成薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120作为显示面板100的开关控制结构，用于控制显示面板100中发光像素的发光方式，以实现显示面板100不同的显示需求。薄膜晶体管层120中设置有辅助电极128，辅助电极128用于与后续膜层连接，以减小显示面板100对应区域的内阻，从而减小内阻压降，提高显示面板100的显示均匀性。
80.其中，薄膜晶体管层120包括多层金属层，在制作薄膜晶体管层120时，能够将辅助电极128与薄膜晶体管层120中的金属层同层设置，以简化显示面板100制作工序，提高生产效率，降低生产成本。具体的，在形成薄膜晶体管层120时，主要包括以下步骤：
81.首先在衬底基板110上沉积一层遮光层121，以对外部环境光进行遮挡，避免外部环境光直接照射至薄膜晶体管层120内部，影响薄膜晶体管层120的结构稳定性。其中，遮光层121的材质包括钼、钛、铜、猛或金属合金中的一种，此处不做限制。
82.接着在遮光层121上沉积一层缓冲层122，缓冲层122可以是单层结构或多层结构，其材质包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的一种或多种。缓冲层122主要用于隔绝遮光层121与后续膜层，避免遮光层121与后续膜层之间出现相互干扰，同时也能避免衬底基板110中的杂质离子进入后续膜层。
83.在缓冲层122上依次沉积有源层123、栅极绝缘层124和栅极层125，并进行图案化处理。有源层123采用金属氧化物半导体材料，包括igzo、izto或igzto等，通过图案化处理使有源层123与图案化之后的遮光层121对应设置。栅极绝缘层124可以是单层结构或者多层结构，其材质包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的一种或多种。栅极层125的材质则包括钼、钛、铜或金属合金中的一种。
84.在对栅极层125和栅极绝缘层124进行蚀刻时，先利用一道黄光，对栅极层125进行图案化，再以图案化的栅极层125为掩模版，对栅极绝缘层124进行蚀刻，使栅极绝缘层124仅位于图案化后的栅极层125下方，其他区域的栅极绝缘层124全部除去。之后进行整面的等离子处理，使露出的有源层123对应的区域电阻明显降低，形成导体层，而被栅极绝缘层124和栅极层125遮挡的有源层123区域则保持半导体特性，从而形成导电沟道。
85.接着继续沉积形成层间介质层126，并在层间介质层126上蚀刻形成接触孔，以便于后续膜层与有源层123的连接。层间介质层126可以是单层结构或者多层结构，其材质包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的一种或多种。之后在层间介质层126上沉积一层源漏极层127，并通过图案化处理同时形成源极、漏极、辅助电极128以及连接端子，从而完成薄膜晶体管层120的制作。
86.其中，辅助电极128与源漏极同层设置，有助于缩短辅助电极128与后续阳极层150之间的连接距离，从而减小开口深度，降低阳极层150爬坡断裂的风险。源漏极层127的材质包括钼、钛、铜、猛或金属合金中的一种，此处不做限制。
87.在制作完成薄膜晶体管层120之后，可以在薄膜晶体管层120表面沉积一层钝化层130，以对源漏极层127进行保护，钝化层130可以是单层结构或者多层结构，其材质包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的一种或多种。
88.s300、在薄膜晶体管层120上形成平坦化层140，并在平坦化层140上形成第一开口141，使第一开口141露出所述辅助电极128。
89.如图5所示，制作完成薄膜晶体管层120之后，在薄膜晶体管层120上制作一层平坦化层140，以对薄膜晶体管层120表面进行平坦化处理，以便于后续膜层的制作。平坦化层140上对应辅助电极128的位置开设有第一开口141，第一开口141露出辅助电极128，以便于后续膜层与辅助电极128的连接设计。
90.其中，平坦化层140可以是单层结构或者多层结构，其具体设置方式能够根据平坦化层140的平坦化效果进行调整，以保证薄膜晶体管层120表面平坦化之后的平坦度，改善后续膜层的厚度均匀性。
91.s400、在平坦化层140上形成阳极层150，并对阳极层150进行处理，以形成间隔设置的阳极155和连接部154，使连接部154与辅助电极128电连接；连接部154面向阳极155的侧边面上朝向阳极155凸出有第一凸出部1541，第一凸出部1541与平坦化层140形成底切结构。
92.如图6所示，完成平坦化层140的制作后，在平坦化层140表面沉积形成阳极层150，并通过蚀刻液对阳极层150进行蚀刻，形成间隔设置的阳极155和连接部154。阳极155作为显示面板100中发光像素的控制电极，通过阳极155上信号的导通与断开，即可实现对显示面板100中发光像素发光方式的控制。连接部154与辅助电极128电连接，在制作后续膜层时，通过后续膜层与连接部154的连接设计，即可实现后续膜层与辅助电极128的电连接。
93.其中，连接部154面向阳极155的侧边面上朝向阳极155凸出有第一凸出部1541，且第一凸出部1541与平坦化层140之间具有间隙，即第一凸出部1541与平坦化层140形成了底切结构。在制作后续膜层时，第一凸出部1541能够将后续膜层进行打断，使后续膜层在第一凸出部1541边缘处断开；同时，在第一凸出部1541与平坦化层140之间设置间隙，使得在制作后续膜层时，能够通过调整蒸镀或溅射角度，使后续膜层延伸至第一凸出部1541下方并
与连接部154搭接，从而实现后续膜层与辅助电极128的电连接，进而改善显示面板100的显示均匀性。
94.需要说明的是，第一凸出部1541为阳极层150中连接部154的一部分，即底切结构直接形成在阳极层150的连接部154上，使得在对阳极层150进行图案化处理时能够同时形成底切结构，而无需单独制作，从而能够简化显示面板100中底切结构的制程工序，减少光罩次数，降低显示面板100的制作成本。
95.s500、在阳极层150背离衬底基板110的一侧形成阴极层180，使阴极层180延伸至底切结构内并与连接部154电连接。
96.完成阳极层150的制作后，能够采用蒸镀或溅射的方式在阳极层150背离衬底基板110的一侧形成一层阴极层180，通过阳极层150和阴极层180的共同作用，能够实现对显示面板100显示方式的调控。即在制作阴极层180时，通过调整蒸镀或溅射角度，使阴极层180在第一凸出部1541边缘处断开，阴极层180延伸至底切结构内并与连接部154电连接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
97.在制作显示面板100时，为保证显示面板100具有足够的透光率，需要减小阴极层180的厚度，从而使阴极层180表面内阻较大，造成的内阻压降严重，从而导致显示面板100出现显示不均的问题，严重影响显示面板100的显示效果。通过设置辅助电极128，使阴极层180与辅助电极128电连接，能够减小显示面板100对应区域的内阻，从而减小内阻压降带来的影响，提高显示面板100的显示均匀性，改善显示面板100的显示效果。
98.需要说明的是，在形成阴极层180之前，显示面板100的制作方法还包括像素定义层160和发光层170的制作，具体包括以下内容：
99.首先在平坦化层140和阳极层150上形成像素定义层160，并在像素定义层160上开设像素开口，使像素开口露出部分阳极155，用于后续膜层与阳极155的连接。此外，像素定义层160上还开设有第二开口，第二开口露出底切结构，以便于在后续制作阴极层180时，阴极层180能够在第一凸出部1541边缘断开，同时与连接部154连接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
100.接着在像素定义层160和阳极层150上蒸镀一层发光层170，第一凸出部1541会将发光层170打断，使发光层170在第一凸出部1541的边缘断开，通过调整发光层170的蒸镀角度，与阴极层180的蒸镀角度相互配合，能够使阴极层180完全覆盖发光层170并向第一凸出部1541下方延伸，以保证阴极层180与连接部154的有效搭接，从而实现阴极层180与辅助电极128的电连接。
101.可选的，如图7所示，步骤s400中在平坦化层140上形成阳极层150，并对阳极层150进行处理，以形成间隔设置的阳极155和连接部154，主要包括以下步骤：
102.s410、在平坦化层140上依次形成搭接层151、反射层152和电极层153，搭接层151、反射层152和电极层153构成阳极层150。
103.如图8所示，在制作阳极层150时，先在平坦化层140上依次沉积形成搭接层151和反射层152，并放置于单独腔室进行真空氧化，然后在反射层152上沉积形成电极层153，搭接层151、反射层152和电极层153则共同构成阳极层150。
104.其中，搭接层151用于与薄膜晶体管层120内部结构电连接，并隔绝平坦化层140中的水分，避免水分进入反射层152，影响反射层152的结构稳定性。反射层152则用于对外部
环境光进行反射，避免外部环境光直接照射至显示面板100内部，影响显示面板100的显示效果。电极层153则用于与发光像素电连接，以实现对发光像素发光方式的控制，从而实现对显示面板100显示方式的调控。
105.s420、对电极层153进行蚀刻，以形成第一电极部1531和第二电极部1532。
106.在对阳极层150进行图案化处理时，首先对电极层153进行蚀刻，电极层153的材质包括氧化铟锡或氧化铟锌，其能够被草酸所蚀刻。因此，能够采用草酸作为蚀刻液对电极层153进行蚀刻，以形成第一电极部1531和第二电极部1532。
107.需要说明的是，电极层153并不局限于上述材质，当电极层153的材质发生改变时，对应所用的蚀刻液也随之改变，此处并不做特殊限制。
108.s430、对反射层152进行蚀刻，以形成第一反射部1521和第二反射部1522，使第一电极部1531凸出于第一反射部1521面向第二反射部1522的侧边面并形成第一凸出部1541。
109.本技术实施例中的反射层152包括铝镍铜镧合金，其能够被铝酸所蚀刻，因此，在对反射层152进行图案化处理时，能够采用铝酸作为蚀刻液对反射层152进行蚀刻，以形成第一反射部1521和第二反射部1522。
110.通过调节铝酸的蚀刻工艺，使反射层152侧刻，从而使第一电极部1531凸出于第一反射部1521面向第二反射部1522的侧边面并形成第一凸出部1541，同时，第二电极部1532也会凸出于第二反射部1522面向第一反射部1521的侧边面并形成第三凸出部。
111.需要说明的是，反射层152并不局限于上述材质，当反射层152的材质发生改变时，对应所用的蚀刻液也随之改变，此处并不做特殊限制。
112.s440、对搭接层151进行蚀刻，以形成第一搭接部1511和第二搭接部1512，使第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向第二反射部1522的侧边面并形成第二凸出部1542；第一搭接部1511、第一反射部1521和第一电极部1531构成连接部154，第二搭接部1512、第二反射部1522和第二电极部1532构成阳极155。
113.本技术实施例中的搭接层151包括钼或钼钛镍合金，其也能够被铝酸所蚀刻，因此，在对搭接层151进行图案化处理时，能够采用铝酸作为蚀刻液对搭接层151进行蚀刻，以形成第一搭接部1511和第二搭接部1512，即本技术实施例中对反射层152和搭接层151的蚀刻能够同时进行。
114.由于搭接层151与反射层152在铝酸中的蚀刻速度不同，相对于反射层152而言，搭接层151在铝酸中的蚀刻速度更慢，从而在蚀刻过程中，能够使第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向第二反射部1522的侧边面并形成第二凸出部1542。同时，第二搭接部1512也会凸出于第二反射部1522面向第一反射部1521的侧边面并形成第四凸出部。
115.其中，第一搭接部1511、第一反射部1521和第一电极部1531构成连接部154，第二搭接部1512、第二反射部1522和第二电极部1532构成阳极155。也就是说，在利用蚀刻液对阳极层150进行图案化处理的同时即可在连接部154上形成底切结构，从而减少光罩次数，降低生产成本。
116.需要说明的是，搭接层151并不局限于上述材质，当搭接层151的材质发生改变时，对应所用的蚀刻液也随之改变，此处并不做特殊限制。只需保证在通过蚀刻液对阳极层150进行图案化处理的同时，第一电极部1531凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面形成第一凸出部1541，第一搭接部1511凸出于第一反射部1521面向阳极155的侧边面形成第
二凸出部1542，即在利用蚀刻液对阳极层150进行图案化处理的同时在连接部154上形成底切结构即可，此处并不做特殊限制。
117.其中，在完成阳极层150的图案化处理之后，能够对第一电极部1531和第二电极部1532进行热处理，使第一电极部1531和第二电极部1532结晶致密化，提高第一电极部1531和第二电极部1532的结构强度，避免第一电极部1531和第二电极部1532在制作或使用过程中发生坍塌。
118.以上对本技术实施例所提供的一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。
技术特征：1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；薄膜晶体管层，设置在所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；平坦化层，设置在所述薄膜晶体管层上，所述平坦化层上开设有第一开口，所述第一开口露出所述辅助电极；阳极层，设置在所述平坦化层背离所述衬底基板的一侧，所述阳极层包括间隔设置的阳极和连接部，所述连接部与所述辅助电极电连接；所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极凸出有第一凸出部，所述第一凸出部与所述平坦化层形成底切结构；阴极层，设置在所述阳极层背离所述衬底基板的一侧，所述阴极层延伸至所述底切结构内并与所述连接部电连接。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极还凸出有第二凸出部，所述第二凸出部与所述第一凸出部沿远离所述衬底基板的方向间隔设置；所述第二凸出部与所述第一凸出部形成所述底切结构，所述阴极层与所述第二凸出部电连接。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述连接部包括沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的第一搭接部、第一反射部和第一电极部，所述第一搭接部与所述辅助电极电连接；所述第一搭接部凸出于所述第一反射部面向所述阳极的侧边面，以形成所述第二凸出部；所述第一电极部凸出于所述第一反射部面向所述阳极的侧边面，以形成所述第一凸出部。4.根据权利要求2或3所述的显示面板，其特征在于，所述第一凸出部在所述衬底基板上的正投影与所述第二凸出部在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阳极包括沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的第二搭接部、第二反射部和第二电极部，所述薄膜晶体管层包括源漏极层，所述第二搭接部与所述源漏极层电连接。6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极部包括氧化铟锡或氧化铟锌；所述第一反射部包括铝镍铜镧合金；所述第一搭接部包括钼或钼钛镍合金。7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：像素定义层，设置在所述平坦化层和所述阳极层上，所述像素定义层上开设有像素开口，所述像素开口露出部分所述阳极；所述像素定义层上开设有第二开口，所述第二开口露出所述第一凸出部和所述第二凸出部；发光层，设置在所述像素定义层和所述阳极层上，所述发光层部分覆盖所述第二凸出部；所述阴极层覆盖所述发光层并与所述第二凸出部电连接。8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至7任一项所述的显示面板。9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；在所述薄膜晶体管层上形成平坦化层，并在所述平坦化层上形成第一开口，使所述第一开口露出所述辅助电极；
在所述平坦化层上形成阳极层，并对所述阳极层进行处理，以形成间隔设置的阳极和连接部，使所述连接部与所述辅助电极电连接；所述连接部面向所述阳极的侧边面上朝向所述阳极凸出有第一凸出部，所述第一凸出部与所述平坦化层形成底切结构；在所述阳极层背离所述衬底基板的一侧形成阴极层，使所述阴极层延伸至所述底切结构内并与所述连接部电连接。10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述平坦化层上形成阳极层，并对所述阳极层进行处理，以形成间隔设置的阳极和连接部，包括：在所述平坦化层上依次形成搭接层、反射层和电极层，所述搭接层、所述反射层和所述电极层构成阳极层；对所述电极层进行蚀刻，以形成第一电极部和第二电极部；对所述反射层进行蚀刻，以形成第一反射部和第二反射部，使所述第一电极部凸出于所述第一反射部面向所述第二反射部的侧边面并形成第一凸出部；对所述搭接层进行蚀刻，以形成第一搭接部和第二搭接部，使所述第一搭接部凸出于所述第一反射部面向所述第二反射部的侧边面并形成第二凸出部；所述第一搭接部、所述第一反射部和所述第一电极部构成连接部，所述第二搭接部、所述第二反射部和所述第二电极部构成阳极。
技术总结本申请实施例公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。显示面板包括依次设置的衬底基板、薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层和阴极层，薄膜晶体管层包括辅助电极，阳极层包括间隔设置的阳极和连接部，连接部与辅助电极电连接，连接部面向阳极的侧边面上朝向阳极凸出有第一凸出部，第一凸出部与平坦化层形成底切结构，阴极层延伸至底切结构内与连接部电连接。本申请通过形成第一凸出部，使阴极层在第一凸出部边缘断开并延伸至第一凸出部下方与连接部搭接，以实现阴极层与辅助电极的电连接。此外，由于底切结构直接形成于阳极层的连接部上，使得底切结构能够在对阳极层进行图案化处理时同时形成，从而减少光罩次数，降低生产成本。产成本。产成本。
技术研发人员：武凡靖 胡靖源
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.07.20
技术公布日：2022/11/1
