本申请涉及镀膜，尤其涉及一种镀膜设备和电池生产线。
背景技术：
1、在卧式磁控溅射镀膜设备中，镀膜靶材设置在承载结构的下侧，对承载结构承载的待镀膜物的下表面进行镀膜。但是，待镀膜物容易从承载结构上掉下，从而搭在镀膜靶材与镀膜腔的内壁之间，这会造成对镀膜靶材的遮挡，影响生产。而且，镀膜靶材往往为阴极，镀膜腔的内壁往往为阳极，待镀膜物搭在镀膜靶材与镀膜腔的内壁之间，容易造成阴极与阳极短路，生产无法进行，严重情况下短路电流还会造成镀膜靶材的损坏。
2、相关技术中，在待镀膜物搭在镀膜靶材与镀膜腔的内壁之间的情况下，需要将设备停机，打开镀膜腔，人工将待镀膜物从镀膜靶材上移开，效率较低。
技术实现思路
1、本申请提供一种镀膜设备和电池生产线，能够提高生产效率。
2、第一方面，本申请提供一种镀膜设备，镀膜设备包括镀膜室、输送线、靶材件和撞击件。输送线设置于镀膜室内，输送线的延伸方向与竖直方向具有夹角，输送线用于沿延伸方向输送待镀膜物；靶材件设置于镀膜室内，且位于输送线的下侧，且对应输送线的输出端处设置，以对输送线输送的待镀膜物的下侧面镀膜；撞击件设置于镀膜室内，且设置于输送线的下侧，以能够击碎从输送线上掉落的待镀膜物；撞击件与靶材件在第一水平方向上错开，撞击件与靶材件在第一水平方向上的距离小于待镀膜物的长度。
3、在本申请的一种实现方式中，输送线的延伸方向为第一水平方向。
4、在本申请的一种实现方式中，输送线包括承载部，承载部用于承载待镀膜物，沿竖直方向，待镀膜物向承载部的投影的轮廓与承载部的轮廓相匹配；沿第二水平方向，承载部与靶材件的中部对应设置，第二水平方向与第一水平方向垂直。
5、在本申请的一种实现方式中，沿第一水平方向，靶材件的相对两侧均设置有撞击件。
6、在本申请的一种实现方式中，撞击件高于靶材件，或沿竖直方向与靶材件平齐。
7、在本申请的一种实现方式中，撞击件与镀膜室转动连接，以使撞击件能够在一动力的作用下相对镀膜室转动，以击碎待镀膜物。
8、在本申请的一种实现方式中，靶材件与撞击件在第二水平方向上的长度相匹配，第二水平方向与第一水平方向垂直，撞击件相对镀膜室转动的轴线与第二水平方向平行。
9、在本申请的一种实现方式中，撞击件呈板状结构，第二水平方向与板状结构的厚度方向垂直。
10、在本申请的一种实现方式中，输送线包括辊道，辊道的辊筒的轴线与撞击件相对镀膜室转动的轴线平行，辊筒与撞击件传动连接，以驱动撞击件相对镀膜室转动。
11、在本申请的一种实现方式中，撞击件与对应的辊筒通过第一同步带传动连接，以驱动撞击件相对镀膜室转动。
12、在本申请的一种实现方式中，输送线用于输送硅片，靶材件包括透明导电氧化物材料，以对输送线输送的硅片镀覆透明导电氧化物膜。
13、第二方面，本申请提供一种电池生产线，电池生产线包括输送机构、丝网印刷设备和本申请第一方面提供的镀膜设备。输送机构的输入端与镀膜设备连接，以输送由镀膜设备已镀膜的硅片；丝网印刷设备设置于输送机构的输出端，以对输送机构输送的已镀膜的硅片进行丝网印刷，以制成电极。
14、本申请提供的镀膜设备，在输送线的下侧设置了撞击件，撞击件与靶材件在第一水平方向上错开，且与靶材件在第一水平方向上的距离小于待镀膜物的长度，使得撞击件一方面不容易对靶材件的溅射产生遮挡，使生产正常进行，另一方面又能够对掉落在靶材件附近的待镀膜物进行击碎，降低待镀膜物的长度，使待镀膜物的长度不足以搭在镀膜室的内壁与靶材件之间，这样，就不需要打开镀膜室，人工将待镀膜物从靶材件上移开，生产能够持续进行，有利于提高生产效率。
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送线(6)的延伸方向为所述第一水平方向(a)。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送线(6)包括承载部(641)，所述承载部(641)用于承载所述待镀膜物(01)，沿竖直方向(c)，所述待镀膜物(01)向所述承载部(641)的投影的轮廓与所述承载部(641)的轮廓相匹配；沿第二水平方向(b)，所述承载部(641)与所述靶材件(3)的中部对应设置，所述第二水平方向(b)与所述第一水平方向(a)垂直。
4.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，沿所述第一水平方向(a)，所述靶材件(3)的相对两侧均设置有所述撞击件(4)。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述撞击件(4)高于所述靶材件(3)，或沿竖直方向(c)与所述靶材件(3)平齐。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述撞击件(4)与所述镀膜室(1)转动连接，以使所述撞击件(4)能够在一动力的作用下相对所述镀膜室(1)转动，以击碎所述待镀膜物(01)。
7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述靶材件(3)与所述撞击件(4)在第二水平方向(b)上的长度相匹配，所述第二水平方向(b)与所述第一水平方向(a)垂直，所述撞击件(4)相对所述镀膜室(1)转动的轴线与所述第二水平方向(b)平行。
8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，所述撞击件(4)呈板状结构，所述第二水平方向(b)与所述板状结构的厚度方向垂直。
9.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送线(6)包括辊道，所述辊道的辊筒(61)的轴线与所述撞击件(4)相对所述镀膜室(1)转动的轴线平行，所述辊筒(61)与所述撞击件(4)传动连接，以驱动所述撞击件(4)相对所述镀膜室(1)转动。
10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其特征在于，所述撞击件(4)与对应的所述辊筒(61)通过第一同步带(7)传动连接，以驱动所述撞击件(4)相对所述镀膜室(1)转动。
11.根据权利要求1～5中任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送线(6)用于输送硅片，所述靶材件(3)包括透明导电氧化物材料，以对所述输送线(6)输送的所述硅片镀覆透明导电氧化物膜。
12.一种电池生产线，其特征在于，包括：
