本申请涉及泵送，具体而言，涉及一种干式真空泵及废气处理系统。
背景技术：
1、由于干式真空泵不需要润滑油来润滑密封，做到了无油蒸汽污染，而且对被抽气体中含有的灰尘和水蒸气不敏感，因而，由干式真空泵组成的真空系统，在半导体工业、电子工业领域得到了广泛的应用，用于抽取工艺气体。工艺气体中往往含有大量的有毒或腐蚀性气体(例如氨气、甲烷等)以及易凝结的粉末物质。
2、为了避免工艺气体反应、凝结或燃爆，减少腐蚀和附着以延迟对泵的腐蚀，通常会向干泵真空泵中注入吹扫气体（非反应性气体吹扫，例如氮气）对其所抽吸的工艺气体浓度进行稀释。吹扫气体经供气管路接入真空泵内每一级腔室的注入口，其中，各注入口开设于真空泵泵体的下表面。为了防止回流及控制各级腔室处所需的吹扫气体流量，供气管路包括在各注入口的下方分别设置的单向限流件，单向限流件由单向阀及流量限制件构成。
3、现实使用场景下，由于单向阀的敏感度、限流件的限流孔孔径小，二者极易被工艺气体中含有的粉尘堵塞，影响氮气的定量供给，从而难以保持真空泵内的真空环境，因此，需要定期更换或维护单向阀与限流件。然而受限于真空泵的安装空间，真空泵的下方可用于进行更换单向阀和流量限制件的操作空间狭小，增加了维护难度。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种干式真空泵，以解决真空泵的氮气吹扫装置中所配置的单向限流件安装与更换操作不便利的问题。
2、为解决上述问题，本申请一方面提供了一种干式真空泵，包括：
3、泵体，所述泵体具有多个第一氮气注入口；
4、氮气吹扫装置，所述氮气吹扫装置包括：分配器、多条配气管路、以及多个单向限流件，
5、所述分配器内开设有一条进气通道和多条导气通道，所述导气通道在气体流动方向上连通于所述进气通道的下游；所述分配器上还开设有进气口和多个出气口，所述进气口与所述进气通道连通，多个所述出气口与多个所述导气通道一一对应连通；
6、多条所述配气管路分别连接于多个所述出气口与多个所述第一氮气注入口之间；
7、所述单向限流件安装于所述出气口，并连通在所述出气口与所述配气管路之间；
8、所述分配器设置于所述泵体的轴向一侧，多条所述配气管路布置于所述泵体的下方并沿所述泵体的轴向方向延伸。
9、因此，通过将多个单向限流件集成设置于分配器上，并合理规划分配器与泵体、配气管路与泵体之间的相对位置，为单向限流件的维护与更换操作提供了足够空间，解决了现有技术中因单向限流件设置于泵体下方而导致更换维护不便利的问题，提高了便利性。
10、进一步地，多个所述出气口位于所述分配器的同一侧表面上。从而，安装于分配器出气口的单向限流件同样可沿泵体的轴向方向设置，如此，可进一步优化配气管路的排布，同时在一定程度上还可降低干式真空泵的高度，使得占用空间减小。
11、进一步地，所述单向限流件与所述分配器及所述配气管路可拆卸地固定连接，从而，使得所述单向限流件便于更换与固定。
12、进一步地，所述氮气吹扫装置还包括：供气管路，所述供气管路与所述分配器的进气口连接。
13、进一步地，所述供气管路包括主供气管路、第一支供气管路和第二支供气管路；
14、所述主供气管路的一端与氮气供给源连接，所述主供气管路的另一端分别与所述第一支供气管路和所述第二支供气管路连通；
15、所述第一支供气管路与所述分配器的进气口连通；
16、所述泵体还设有至少一个第二氮气注入口，所述第二支供气管路与所述第二氮气注入口连通。如此，通过设置两条支供气管路，可将氮气源接入不同的供给回路，从而能够满足真空泵中对氮气的多种供给需求。
17、进一步地，所述第一支供气管路上还设置有一电磁阀，所述电磁阀用于控制所述进气口的导通或关断。从而，在维护或更换单向限流件时，能够及时切断分配器处的氮气供给。
18、进一步地，所述泵体内设有若干级腔室，所述若干级腔室按真空度高低顺序沿所述泵体的轴向方向依次排布；多个所述第一氮气注入口分别与所述若干级腔室中具有较低真空度的多级所述腔室一一对应流体连通，至少一个所述第二氮气注入口与所述若干级腔室中具有较高真空度的至少一个所述腔室流体连通。从而，能够实现对高真空度腔室和低真空度腔室进行独立地氮气供给控制。
19、进一步地，所述单向限流件包括串联设置的单向阀和限流片，所述限流片上开设有限流孔。从而，可以控制各配气管路中气体流向与流量，以满足氮气定量供给需求。
20、进一步地，所述出气口为四个，所述配气管路为四条，所述第一氮气注入口为四个，使得分配器实现了“一进四出”的功能。
21、本申请另一方面还提供了一种废气处理系统，包括上述干式真空泵，以满足废气泵送需求。
22、与现有技术相比，本申请的有益效果是：
23、本申请提供的干式真空泵包括泵体和氮气吹扫装置，其中氮气吹扫装置包括分配器、多个单向限流件以及多条配气管路，通过将氮气吹扫装置中的多个单向限流件集成设置于分配器上，并合理规划分配器与泵体、配气管路与泵体之间的相对位置。如此设置方式，为单向限流件的维护与更换操作提供了足够空间，解决了现有技术中因单向限流件设置于泵体下方而导致更换维护不便利的问题，提高了便利性。另外，多条配气管路在泵体的下方、沿泵体的轴向方向延伸且互不干涉，使得配气管路排布更加合理。
1.一种干式真空泵（100），其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的干式真空泵（100），其特征在于，多个所述出气口（214）位于所述分配器（21）的同一侧表面上。
3.根据权利要求1所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述单向限流件（23）与所述分配器及所述配气管路可拆卸地固定连接。
4.根据权利要求1所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述氮气吹扫装置（20）还包括：供气管路，所述供气管路与所述分配器（21）的进气口（213）连接。
5.根据权利要求4所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述供气管路包括主供气管路（241）、第一支供气管路（242）和第二支供气管路（243）；
6.根据权利要求5所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述第一支供气管路（242）上还设置有一电磁阀，所述电磁阀用于控制所述进气口（213）的导通或关断。
7.根据权利要求5所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述泵体（10）内设有若干级腔室，所述若干级腔室按真空度高低顺序沿所述泵体（10）的轴向方向依次排布；多个所述第一氮气注入口（11）分别与所述若干级腔室中具有较低真空度的多级所述腔室一一对应流体连通，至少一个所述第二氮气注入口（12）与所述若干级腔室中具有较高真空度的至少一个所述腔室流体连通。
8.根据权利要求1所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述单向限流件（23）包括串联设置的单向阀（231）和限流片（232），所述限流片（232）上开设有限流孔（2321）。
9.根据权利要求1所述的干式真空泵（100），其特征在于，所述出气口（214）为四个，所述配气管路（22）为四条，所述第一氮气注入口（11）为四个。
10.一种废气处理系统，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的干式真空泵（100）。
