本技术涉及机械设备，尤其涉及一种摆臂装置及晶圆清洗设备。
背景技术：
1、传统的旋转摆臂机构用气缸加步进电机驱动摆臂升降及旋转一个气缸做升降驱动推动机构升降，一个步进电机做旋转驱动。但是它灵活性跟定位精度差，例如：气缸上下调节的装置位置不可调节、不带自锁功能；步进电机不能做到位置实时反馈，那么就不好实现根据设备功能及客户产品的不同去做位置调节，使用范围有限。
2、因此，需要设计一种升降摆臂机构，实现与整机其他机构的灵活配置、升降位置可任意调节并达到实时检测的目的。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提出一种摆臂装置及晶圆清洗设备，实现与整机其他机构的灵活配置、升降位置可任意调节并达到实时检测的目的。
2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
3、摆臂装置，包括支撑平台，还包括：
4、摆臂机构，安装于所述支撑平台，包括升降旋转臂和升降旋转轴，所述升降旋转臂和升降旋转轴转动连接，所述升降旋转轴为中空结构；
5、支撑机构，所述支撑机构包括支撑外壳和支撑组件，所述支撑外壳套设于所述升降旋转轴的外侧，并安装于所述支撑平台，所述支撑组件包括至少三个支撑件，至少三个所述支撑件均匀设置于所述支撑外壳的周向并与所述升降旋转轴滚动连接；
6、旋转升降机构，安装于所述支撑平台并与所述摆臂机构相连接，用于带动所述摆臂机构进行升降和旋转。
7、该摆臂装置利用旋转升降机构带动摆臂机构进行升降和旋转，同时，三个支撑件均匀设置于支撑外壳的周向并与升降旋转轴滚动连接，不仅能够对升降旋转轴提供一定的支撑，还不影响升降旋转轴的升降运动，也为升降旋转轴提供一定的校正，即避免了升降旋转轴发生倾斜，保证了摆臂装置的稳定性，使结构更加紧凑和灵活，进而实现与整机其他机构的灵活配置、升降位置可任意调节并达到实时检测的目的。
8、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述旋转升降机构包括：
9、升降模块，所述升降模块包括升降驱动组件，所述升降驱动组件用于驱动所述升降旋转轴进行升降；
10、旋转模块，所述旋转模块包括旋转驱动组件，所述旋转驱动组件能够带动所述摆臂机构进行旋转。
11、利用升降驱动组件和旋转驱动组件分别对摆臂机构进行升降驱动和旋转驱动，实现了升降功能和旋转功能的分体设置，便于工作人员进行后期维护，保证了摆臂装置的安全性。
12、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述升降模块还包括传动组件，所述传动组件包括螺母件和丝杠件，所述丝杠件与所述升降驱动组件转动连接，所述螺母件的内侧螺纹连接于所述丝杠件，外侧与所述升降旋转轴固定连接。
13、由于螺母丝杠具有运动平稳和精度高等优点，因此，选用螺母丝杠进行传动。
14、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述传动组件还包括传送带，所述传送带套设于所述丝杠件和所述升降驱动组件的输出端，用于将所述升降驱动组件的扭矩传递至所述丝杠件。
15、由于传送带具有良好的挠性，可缓和冲击，吸收振动且过载时带与带轮间产生打滑，有效地防止了损坏其他零件，除此之外，还存在结构简单，成本低廉的优点，因此，选用传送待为升降驱动组件传递扭矩。
16、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述支撑组件设置为两组，且两组所述支撑组件沿竖直方向间隔设置。
17、将支撑组件设置为两组，以保证支撑效果，进一步避免升降旋转轴发生倾斜。
18、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述摆臂机构还包括防水膜，所述防水膜套设于所述升降旋转轴的外壁。
19、将防水膜套设于升降旋转轴的外壁，从而提供防水的功能，拓展了摆臂装置的作业范围。
20、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述摆臂装置还包括定位机构，所述定位机构固定连接于所述支撑平台，用于限制所述支撑机构的定位于所述支撑平台上。
21、利用定位组件对支撑机构进行定位，避免了支撑机构在进行安装时出现晃动而导致安装错位，从而导致支撑机构和穿设于支撑机构的升降旋转轴发生倾斜。
22、作为上述摆臂装置的一种优选方案，所述定位机构包括至少两个定位件，所述定位件安装于所述支撑平台，并对称设置于所述支撑外壳的侧方。
23、通过配置对个定位件，并将定位件安装于支撑外壳的侧方，达到了多方位限位支撑外壳的目的，进一步保证了定位的精度。
24、晶圆清洗设备，包括清洗装置以及上述的摆臂装置，所述清洗装置与所述摆臂装置相连接，用于对晶圆进行清洗。
25、该晶圆清洗设备利用清洗装置配合摆臂装置对晶圆进行清洗，其优点在于，可根据设备功能做到灵活安转及调试，还可根据实际作业需求和工艺要求做到功能选配及调节，除此之外，该晶圆清洗设备的机构设计小巧且不占空间可整租机构安装拆卸。
26、作为上述晶圆清洗设备的一种优选方案，所述清洗装置包括清洗管路，所述清洗管路设置于所述升降旋转轴的所述中空结构内，并从所述升降旋转臂伸出。
27、将清洗管路设置于中空结构内，提高了晶圆清洗设备结构的紧凑性。
28、本实用新型的有益效果：
29、本实用新型提出的摆臂装置，该摆臂装置利用旋转升降机构带动摆臂机构进行升降和旋转，同时，三个支撑件均匀设置于支撑外壳的周向并与升降旋转轴滚动连接，不仅能够对升降旋转轴提供一定的支撑，还不影响升降旋转轴的升降运动，也为升降旋转轴提供一定的校正，即避免了升降旋转轴发生倾斜，保证了摆臂装置的稳定性，使结构更加紧凑和灵活，进而实现与整机其他机构的灵活配置、升降位置可任意调节并达到实时检测的目的。
30、本实用新型提出的晶圆清洗设备，该晶圆清洗设备利用清洗装置配合摆臂装置对晶圆进行清洗，其优点在于，可根据设备功能做到灵活安转及调试，还可根据实际作业需求和工艺要求做到功能选配及调节，除此之外，该晶圆清洗设备的机构设计小巧且不占空间可整租机构安装拆卸。
1.摆臂装置，包括支撑平台(1)，其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的摆臂装置，其特征在于，所述旋转升降机构包括：
3.根据权利要求2所述的摆臂装置，其特征在于，所述升降模块(41)还包括传动组件(412)，所述传动组件(412)包括螺母件(4121)和丝杠件(4122)，所述丝杠件(4122)与所述升降驱动组件(411)转动连接，所述螺母件(4121)的内侧螺纹连接于所述丝杠件(4122)，外侧与所述升降旋转轴(22)固定连接。
4.根据权利要求3所述的摆臂装置，其特征在于，所述传动组件(412)还包括传送带(4123)，所述传送带(4123)套设于所述丝杠件(4122)和所述升降驱动组件(411)的输出端，用于将所述升降驱动组件(411)的扭矩传递至所述丝杠件(4122)。
5.根据权利要求1-4任一项所述的摆臂装置，其特征在于，所述支撑组件(32)设置为两组，且两组所述支撑组件(32)沿竖直方向间隔设置。
6.根据权利要求1-4任一项所述的摆臂装置，其特征在于，所述摆臂机构(2)还包括防水膜(23)，所述防水膜(23)套设于所述升降旋转轴(22)的外壁。
7.根据权利要求1-4任一项所述的摆臂装置，其特征在于，所述摆臂装置还包括定位机构，所述定位机构固定连接于所述支撑平台(1)，用于限制所述支撑机构(3)的定位于所述支撑平台(1)上。
8.根据权利要求7所述的摆臂装置，其特征在于，所述定位机构包括至少两个定位件(51)，所述定位件(51)安装于所述支撑平台(1)，并对称设置于所述支撑外壳(31)的侧方。
9.晶圆清洗设备，包括清洗装置以及如权利要求1-8任一项所述的摆臂装置，所述清洗装置与所述摆臂装置相连接，用于对晶圆进行清洗。
10.根据权利要求9所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗装置包括清洗管路(100)，所述清洗管路(100)设置于所述升降旋转轴(22)的所述中空结构内，并从所述升降旋转臂(21)伸出。
