本发明涉及半导体制造，特别涉及一种玻璃清洗装置、玻璃涂胶设备及玻璃清洗方法。
背景技术：
1、半导体加工工艺中，通常需要固定晶圆以实现晶圆的加工。例如在晶圆键合工艺、刻蚀工艺以及减薄工艺中，均需要将定位后的晶圆固定以防止晶圆发生位移。
2、以晶圆减薄为例，在晶圆减薄过程中，通常需要将晶圆粘贴在玻璃底座上以实现晶圆的固定，然后对固定后的晶圆的背面进行减薄。晶圆减薄完成后，将晶圆与玻璃分离解除键合，此时玻璃表面上会有胶体残留。
3、由于玻璃可以循环利用，所以玻璃在下一次减薄应用中，玻璃需要清洗，以去除玻璃表面附着的残留物。
4、现有的清洗方式一般有两种。一种清洗方式为利用现有涂胶机中的清洗头进行玻璃清洗，该清洗方式为单片清洗(一次只能清洗一片)，其清洗时长较长清洗效率低，严重耽误涂胶机台的涂胶产量，而且清洗液用量大，清洗成本较高。另一种清洗方式为通过专用的机械解键合清洗装置进行清洗，其首先需要将玻璃输送至机械解键合清洗装置中进行清洗，然后再将清洗后的玻璃输送至玻璃涂胶设备中进行涂胶，导致玻璃输送路径较长，影响传输效率，且玻璃输送过程中容易造成二次污染；此外该清洗方式需要分别配置人工操作机械解键合清洗装置和玻璃涂胶设备，导致人力成本增高。
5、为此本发明提供一种玻璃清洗装置、玻璃涂胶设备及玻璃清洗方法，该玻璃清洗装置集成于玻璃涂胶设备中，用于对玻璃进行清洗，且清洗后的玻璃可直接在玻璃涂胶设备中进行涂胶作业，利于提高作业效率，而且该清洗装置可同时清洗多个玻璃，清洗效率高，且清洗液用量小。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种玻璃清洗装置，该玻璃清洗装置集成于玻璃涂胶设备中，用于对玻璃进行清洗，且清洗后的玻璃可直接在玻璃涂胶设备中进行涂胶作业，利于提高作业效率，而且该清洗装置可同时清洗多个玻璃，清洗效率高，且清洗液用量小。
2、本发明提供了一种玻璃清洗装置，包括：传送单元、清洗单元以及干燥单元；
3、所述清洗单元包括清洗槽，所述清洗槽内具有多个用于放置玻璃的清洗位；
4、所述干燥单元用于对清洗后的所述玻璃进行干燥；
5、所述传送单元用于将玻璃传送至所述清洗槽的所述清洗位进行清洗，且用于将清洗后的所述玻璃转运至所述干燥单元并将干燥后的所述玻璃转运至玻璃涂胶设备的涂胶区。
6、可选地，所述玻璃清洗装置还包括循环槽和废液管，所述清洗槽的出口与所述循环槽的进口连通，所述循环槽的出口与所述清洗槽的进口连通，所述清洗槽的出口还与所述废液管连通；
7、所述清洗单元被配置为：
8、若所述清洗槽内的清洗液的清洗次数小于设定次数时，所述玻璃清洗完成后，所述清洗槽内的清洗液排至所述循环槽内，且所述清洗槽在下一次清洗时，所述循环槽内的清洗液注入所述清洗槽内；
9、若所述清洗槽内的清洗液的清洗次数等于设定次数时，所述玻璃清洗完成后，所述清洗槽内的清洗液排至所述废液管。
10、可选地，所述清洗单元还包括喷淋管；
11、所述喷淋管被配置为：
12、所述玻璃清洗完成后且所述清洗槽内的清洗液排空后，所述喷淋管向所述玻璃喷纯水和/或向所述玻璃喷清洁气体。
13、可选地，所述清洗单元还包括超声波震荡装置，所述超声波震荡装置设置于所述清洗槽。
14、可选地，所述清洗槽内设置有多个插槽，所述插槽作为所述清洗位。
15、可选地，所述干燥单元包括承载部，所述承载部用于承载所述传送单元传送的清洗后的玻璃，所述承载部转动的设置。
16、可选地，所述玻璃清洗装置还包括检测单元，所述检测单元用于检测所述干燥单元内的所述玻璃表面的清洁度。
17、可选地，所述干燥单元还包括清扫件，所述清扫件用于清洁所述干燥单元内的所述玻璃的表面；
18、所述清扫件被配置为：
19、若所述检测单元检测的所述清洁度低于清洁度标准时，启动所述清扫件用于清扫所述干燥单元内的所述玻璃的表面。
20、本发明还提供了一种玻璃涂胶设备，包括机台，所述机台内设置有相邻的清洗区和涂胶区，所述清洗区内设置有上述所述的玻璃清洗装置。
21、可选地，所述机台内还设置相邻的缺陷检测区和温控区，所述缺陷检测区与所述涂胶区相邻。
22、本发明还提供了一种玻璃清洗方法，包括以下步骤：
23、将玻璃传输至玻璃涂胶设备内的清洗槽中，并使玻璃浸泡在清洗槽的清洗液中进行清洗；
24、清洗完成后，将玻璃转运至玻璃涂胶设备内的干燥单元进行干燥；
25、干燥完成后，将玻璃转运至玻璃涂胶设备内的涂胶区。
26、可选地，还包括以下步骤：
27、清洗完成后，排空清洗槽内的清洗液，然后将玻璃转运至玻璃涂胶设备内的干燥单元进行干燥；
28、若所述清洗槽内的清洗液的清洗次数小于设定次数，则将清洗液排至循环槽内用于清洗液的循环利用；
29、若所述清洗槽内的清洗液的清洗次数等于设定次数，则将清洗液排至废液管。
30、可选地，排空清洗槽内的清洗液后还包括以下步骤：
31、向所述清洗槽内注入纯水喷淋所述玻璃和/或朝向所述玻璃通入清洁气体。
32、可选地，将玻璃转运至所述干燥单元进行干燥包括：
33、清洁度检测，检测所述玻璃的清洁度，若所述玻璃的所述清洁度低于清洁度标准时，清扫所述玻璃表面；
34、玻璃干燥，向玻璃表面通入清洁气体和/或转动玻璃，以干燥所述玻璃。
35、如此配置，本发明的玻璃清洗装置集成于玻璃涂胶设备中，用于对玻璃进行清洗，且清洗后的玻璃可直接在玻璃涂胶设备中进行涂胶作业，玻璃传输过程在玻璃涂胶设备内部进行，其输出路径较短，利于提高作业效率，而且该清洗装置可同时清洗多个玻璃，清洗效率高，有助于提高玻璃涂胶机的整体涂胶产量，且清洗液用量小，有助于降低清洗成本。
36、而且本发明中的玻璃清洗装置集成在玻璃涂胶机中，将减除键合的玻璃首先输送至玻璃涂胶机的清洗区进行除胶清洗并干燥，然后将清洁的玻璃转运至涂胶区进行涂胶作业。该玻璃涂胶设备中，集成有清洗和涂胶等功能，且通过合理的分区，使得清洗和涂胶功能依次进行。该机台使得玻璃的传输路径变短，提高传输效率，而且只需要一个人工即可操作玻璃涂胶设备实现清洗和涂胶等功能，不需要单独配置人工进行玻璃清洗操作，有助于降低人力成本。
1.一种玻璃清洗装置，设置于所述玻璃涂胶设备中，其特征在于，包括：传送单元、清洗单元以及干燥单元；
2.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述玻璃清洗装置还包括循环槽和废液管，所述清洗槽的出口与所述循环槽的进口连通，所述循环槽的出口与所述清洗槽的进口连通，所述清洗槽的出口还与所述废液管连通；
3.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述清洗单元还包括喷淋管；
4.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述清洗单元还包括超声波震荡装置，所述超声波震荡装置设置于所述清洗槽。
5.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述清洗槽内设置有多个插槽，所述插槽作为所述清洗位。
6.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述干燥单元包括承载部，所述承载部用于承载所述传送单元传送的清洗后的玻璃，所述承载部转动的设置。
7.如权利要求1所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述玻璃清洗装置还包括检测单元，所述检测单元用于检测所述干燥单元内的所述玻璃表面的清洁度。
8.如权利要求7所述的玻璃清洗装置，其特征在于，所述干燥单元包括清扫件，所述清扫件用于清洁所述干燥单元内的所述玻璃的表面；
9.一种玻璃涂胶设备，其特征在于，包括机台，所述机台内设置有相邻的清洗区和涂胶区，所述清洗区内设置有如权利要求1至8中任意一项所述的玻璃清洗装置。
10.如权利要求9所述的玻璃涂胶设备，其特征在于，所述机台内还设置相邻的缺陷检测区和温控区，所述缺陷检测区与所述涂胶区相邻。
11.一种玻璃清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
12.如权利要求11所述的玻璃清洗方法，其特征在于，还包括以下步骤：
13.如权利要求12所述的玻璃清洗方法，其特征在于，排空清洗槽内的清洗液后还包括以下步骤：
14.如权利要求12所述的玻璃清洗方法，其特征在于，将玻璃转运至所述干燥单元进行干燥包括：
