本发明属于球透镜生产，具体涉及一种球透镜精抛装置及精抛方法。
背景技术：
1、球透镜是光学透镜中的一种，其生产过程为：原料熔制得到粗球胚，此时距离规整的球体，还有一定距离，还需要经过研磨、抛光的两道打磨工序，最终得到相应规格的球透镜，使各个过球心的平面与球面的交线是相应直径的圆形。
2、目前用于球透镜研磨、抛光的打磨装置中，多为如公开(公告)号cn221313649u中的通过上下两个半圆罩对中间的球形件进行打磨的，或如公开(公告)号cn118238016a中通过磨盘对球形件进行打磨的，原理都是利用球形件可在打磨件之间随机滚动，所以打磨件对球形件表面的打磨作用只能期望较为均匀地分布在球形件表面上。因此在第一道的研磨工序中，目前用于球透镜研磨的打磨装置并不能保证球形件的表面能受到均匀研磨，总会出现在绝大部分区域都被研磨至符合要求的表面上，仍然散布着一处处圆形凸起的情况，使得球透镜整个表面仍不规整，即球透镜的表面的大部分区域是规整的，小部分区域存在着圆形凸起。此时，若继续用上述的打磨装置研磨，已经规整的区域会跟着这些圆形凸起一起被研磨，会出现磨小的问题，抛光工序的抛光件(抛光片、抛光带等)则研磨力弱，对磨去这些圆形凸起无能为力，目前的做法是依然继续进行抛光，抛光后进行检测，若这些圆形凸起占比不高，整个球透镜的光学性能指标仍然符合标准，则包装入库，若这些圆形凸起占比高，使得球透镜的光学性能指标不符合标准，目前没有设备能很好地处理这些圆形凸起，很容易连带着磨到已经规整的区域，所以球透镜生产的良品率始终不稳定。
技术实现思路
1、本发明的目的是提供一种球透镜精抛装置及精抛方法，以解决目前球透镜生产中无法处理粗球胚在打磨件之间随机滚动研磨后产生的圆形凸起的技术问题。
2、为了解决上述技术问题，本发明提供了一种球透镜精抛装置，包括：转动遍历机构，其适于夹住待抛球，使其间断转动，直至待抛球上方的定位板对待抛球的表面遍历一遍；所述定位板与定位机构中的升降座铰接，且铰接点连线位于定位板沿长度方向的对称面上，定位板的中心位于待抛球的轴线上；所述定位板的两端分别与前杆组和后杆组连接，适于在升降座在待抛球暂停时使水平的定位板下降直至与待抛球抵接后，使定位板的两端摇摆，使定位板的前半部与待抛球抵接，和使定位板的后半部与待抛球抵接；控制模块，其适于通过设置在定位板上的倾角传感器获取定位板的前半部与待抛球抵接时的前倾角，和定位板的后半部与待抛球抵接时的后倾角，并在任一角超过预设值，且该角在之后待抛球暂停后达到最大时，通过研抛带输送机构使定位板底面包上相应长度的研磨带，并通过前杆组和后杆组使定位板保持倾斜，和控制转动遍历机构使待抛球转动，以及使升降座下降，使研磨带研磨定位出的圆形凸起。
3、另一方面，本发明还提供了一种球透镜精抛方法，包括：如上所述的球透镜精抛装置；通过设置在定位板上的倾角传感器获取定位板的前半部与待抛球抵接时的前倾角，和定位板的后半部与待抛球抵接时的后倾角；在任一角超过预设值，且该角在之后待抛球暂停后达到最大时，通过研抛带输送机构使定位板底面包上相应长度的研磨带；通过前杆组和后杆组使定位板保持倾斜，通过转动遍历机构使待抛球转动，以及使升降座下降，使研磨带研磨定位出的圆形凸起。
4、本发明的有益效果是，本发明能够通过转动遍历机构使待抛球间断转动，直至定位板对待抛球的表面遍历一遍，定位机构能够在待抛球间断转动过程中每次暂停时使水平的定位板下降与待抛球抵接，并通过前杆组和后杆组使定位板的两端摇摆，从而获取该次定位板的前半部与待抛球抵接时的前倾角，和定位板的后半部与待抛球抵接时的后倾角，当待抛球暂停时，前倾角和后倾角中任一角超过预设值，且该角达到最大时，表明定位板此时处于圆形凸起的正中间，进而通过研抛带输送机构使定位板底面包上相应长度的研磨带，并通过前杆组和后杆组使定位板保持倾斜，通过转动遍历机构使待抛球相对于底面包上研磨带的定位板转动，从而通过对应长度的研磨带只对定位出的圆形凸起进行研磨而不研磨到圆形凸起周围已经规整的区域，并可以通过逐渐调整定位板的倾斜角度，在圆形凸起处研磨出与待抛球表面适配的弧度。
1.一种球透镜精抛装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
6.根据权利要求3所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
8.根据权利要求3所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
9.根据权利要求3所述的球透镜精抛装置，其特征在于，
10.一种球透镜精抛方法，其特征在于，包括：
