本发明属于玻璃精深加工，具体涉及高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术：
1、在现代建筑领域，玻璃材料因其美观、透光和结构特性而成为不可或缺的组成部分。随着社会对建筑美学和功能性要求的不断提升，玻璃不再仅仅作为结构的透明分割，而是逐渐变成一种满足多种功能需求的智能材料。尤其是低辐射(low-e)镀膜玻璃，因其在节能、隔热和提升室内舒适度方面有显著效果，已成为建筑行业的热点。
2、低辐射玻璃通过在玻璃表面镀上一层或多层金属或金属氧化物薄膜，能够有效地反射室内热量，减少热量流失，同时允许自然光进入，提高采光效果。然而，这种玻璃的性能往往与其透光率和遮阳性能之间存在一种权衡关系。随着透光率的提高，虽然采光效果得到改善，但遮阳性能可能会降低。因此提供一种新型的低辐射镀膜玻璃，它能够在保持高透光率的同时，也具备良好的遮阳性能，从而实现建筑的绿色节能和提升居住者的舒适度。
技术实现思路
1、本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，旨在使其透过率更高同时还兼具良好的遮阳效果。
2、本发明的目的可通过下列技术方案来实现：高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外依次复合有十八个膜层，其中第一层为氧化锡层，第二层为氧化锌锡层，第三层氧化锌层，第四层为银层,第五层为钛层,第六层为氧化锌层,第七层为氧化锌锡层,第八层为氧化锌层，第九层为银层，第十层为钛层，第十一层为氧化锌层，第十二层为氧化锌锡层，第十三层为氧化锌层,第十四层为银层，第十五层为钛层,第十六层为氧化锌层,第十七层为氧化锌锡层,第十八层为氧化锆层。
3、优选的，所述第一层的镀膜厚度为15～25纳米，所述第二层的镀膜厚度为10～25纳米，所述第三层的镀膜厚度为5～15纳米，所述第四层的镀膜厚度为10～20纳米，第五层的镀膜厚度为1～6纳米；第六层的镀膜厚度为10～20纳米；第七层的镀膜厚度为35～50纳米；第八层的镀膜厚度为5～10纳米；第九层的镀膜厚度为10～20纳米；第十层的镀膜厚度为1到6纳米；第十一层的镀膜厚度为5～15纳米；第十二层的镀膜厚度为50～65纳米；第十三层的镀膜厚度为5～15纳米；第十四层的镀膜厚度为15～30纳米；第十五层的镀膜厚度为1～6纳米；第十六层的镀膜厚度为5～15纳米；第十七层为的镀膜厚度为10～20纳米；第十八层的镀膜厚度为5～10纳米。
4、制备上述高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：
5、1)选用浮法原片作为玻璃基片层；
6、2)使用镀膜专用洗片机对玻璃基片层进行清洗并干燥，镀膜前必须保证玻璃基片层的表面干燥、无杂质、无静电；清洗使用去离子水，水质电阻要求大于10μs/cm；
7、3)磁控溅射镀膜
8、a、磁控溅射第一层
9、靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为氧化锡(snox)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1：1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
10、b、磁控溅射第二层
11、靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为氧化锌锡(znsnox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
12、c、磁控溅射第三层
13、靶材数量：交流旋转靶1-2个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
14、d、磁控溅射第四层
15、靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；
16、e、磁控溅射第五层
17、靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛(ti)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；
18、f、磁控溅射第六层
19、靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1：1.8；溅射气压为2～3×10-3mbar；
20、g、磁控溅射第七层
21、靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为氧化锌锡(znsnox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
22、h、磁控溅射第八层
23、靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
24、i、磁控溅射第九层
25、靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；
26、j、磁控溅射第十层
27、靶材数量：交流平面靶1个；靶材配置为钛(ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为3：1；溅射气压为2～3×10-3mbar；
28、k、磁控溅射第十一层
29、靶材数量：交流平面靶1～2个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
30、l、磁控溅射第十二层
31、靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为氧化锌锡(znsnox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar；
32、m、磁控溅射第十三层
33、靶材数量：交流平面靶1～2个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar
34、n、磁控溅射第十四层
35、靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；
36、o、磁控溅射第十五层
37、靶材数量：交流平面靶1个；靶材配置为钛(ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为3：1；溅射气压为2～3×10-3mbar；
38、p、磁控溅射第十六层
39、靶材数量：交流平面靶1～2个；靶材配置为氧化锌(snox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar
40、q、磁控溅射第十七层
41、靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为氧化锌锡(znsnox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.8；溅射气压为3～5×10-3mbar
42、r、磁控溅射第十八层
43、靶材数量：交流平面靶1～2个；靶材配置为氧化锆(zrox)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为20：1；溅射气压为3～5×10-3mbar
44、4)总膜层厚度控制在198～383nm，一般溅射室传动走速控制在3.0～6.0m/min。
45、本发明优点：
46、1、本专利技术产品6mm超白单片透过率透过色t∈[70，80],a*∈[0，-3]，b*∈[-1，+5]；玻面颜色a*∈[2,-1]，b*∈[-3，-9]；膜面颜色a*∈[0,-2]，b*∈[-5，-10]；
47、2、可进行后续切割、磨边、钢化或弯钢化等工艺加工，可大面积生产且在长期运输、储存过程中不易划伤、氧化。
48、3、光热比性能＞2.0；
1.高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(g)和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层(g)向外依次复合有十八个膜层，其中第一层(1)为氧化锡层，第二层(2)为氧化锌锡层，第三层(3)氧化锌层，第四层(4)为银层,第五层(5)为钛层,第六层(6)为氧化锌层,第七层(7)为氧化锌锡层,第八层(8)为氧化锌层，第九层(9)为银层，第十层(10)为钛层，第十一层(11)为氧化锌层，第十二层(12)为氧化锌锡层，第十三层(13)为氧化锌层,第十三层(14)为银层，第十五层(15)为钛层,第十六层(16)为氧化锌层,第十七层(17)为氧化锌锡层,第十八层(18)为氧化锆层。
2.根据权利要求1所述的高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)的镀膜厚度为15～25纳米，所述第二层(2)的镀膜厚度为10～25纳米，所述第三层(3)的镀膜厚度为5～15纳米，所述第四层(4)的镀膜厚度为10～20纳米，第五层(5)的镀膜厚度为1～6纳米；第六层(6)的镀膜厚度为10～20纳米；第七层(7)的镀膜厚度为35～50纳米；第八层(8)的镀膜厚度为5～10纳米；第九层(9)的镀膜厚度为10～20纳米；第十层(10)的镀膜厚度为1到6纳米；第十一层(11)的镀膜厚度为5～15纳米；第十二层(12)的镀膜厚度为50～65纳米；第十三层(13)的镀膜厚度为5～15纳米；第十三层(14)的镀膜厚度为15～30纳米；第十五层(15)的镀膜厚度为1～6纳米；第十六层(16)的镀膜厚度为5～15纳米；第十七层(17)为的镀膜厚度为10～20纳米；第十八层(18)的镀膜厚度为5～10纳米。
3.一种制备权利要求1所述的高性能可钢化高透三银低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：
